張 衍,潘忠奔,焦鵬沖,居 佳,何 亭,蔡華強*
(1.中國工程物理研究院 化工材料研究所,四川 綿陽 621900;2.四川省新材料研究中心,四川 成都 610000)
高揮發性稀土有機螯合物的氣相摻雜技術(Chelate-precursor doping technique,CPDT)是制備高功率激光光纖的一種具有實用前景的新技術,相比傳統的稀土鹵化物摻雜技術可實現更高濃度的元素摻雜[1-2]。四(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)鈰(Ⅳ)螯合物(Ce(TMHD)4)是一種非常有效的氣相鈰摻雜源,通過鈰的摻雜可顯著降低激光光纖使用過程中的光暗化效應,提高光纖輸出激光的功率穩定性[3],對高功率激光光纖的研制極其重要。為盡可能降低光纖長光程導致的吸收損耗風險,通常要求稀土螯合物具有較高的純度,因此對典型稀土和非稀土雜質離子的總量控制有嚴格的要求[4-5],需借助必要的分析手段以實現超痕量雜質離子的有效監控。
由于鈰具有豐富的光譜發射譜線及多質量同位素特征,采用常規甚至高分辨模式的電感耦合等離子體發射光譜(ICP-OES)或電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)均難以滿足4N以上高純鈰化合物的直接純度分析要求[6-10],尤其對于測試中受鈰基體干擾嚴重的La、Pr、Tb、Gd、Dy等待測元素,其準確分析通常需結合微柱分離等基體分離技術,使得分析過程繁瑣、費時[11-14]。三重四極桿電感耦合等離子體質譜(ICP-QQQ或ICP-MS/MS)是近年來出現的無機質譜新技術,其巧妙地結合了質量篩選和質量轉移碰撞/反應池技術而展現出獨特的化學高分辨能力,為解決強復合離子質譜干擾提供了一種非常有效的技術途徑,已有報道采用ICP-MS/MS分別實現了5N高純氧化釹[11]和氧化釤[15]中稀土雜質離子的直接純度分析。
本文采用ICP-MS/MS技術,結合耐高鹽進樣系統(High matrix introduction,HMI)的氣溶膠稀釋功能所具有的氧化物產率抑制能力,優化了儀器參數和多碰撞/反應池模式,首次實現了6N超高純四(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)鈰(Ⅳ)螯合物(Ce(TMHD)4)中14種超痕量稀土雜質離子以及Ca、Fe、Cu、Zn 4種典型非稀土雜質離子的直接測定,相關研究尚未見報道。該方法為激光光纖用6N超高純鈰化合物提供了高效快捷的雜質檢測手段,對產品的質量控制具有重要意義。
8800 ICP-MS/MS(美國Agilent公司),配x型透鏡系統(x-lens)、鎳采樣錐和截取錐、玻璃同心霧化器及耐高鹽進樣系統(HMI);硝酸(超痕量金屬級,ULTREX?Ⅱ,J.T.Baker,USA);實驗用水(電阻率18.2 MΩ·cm)由Elga Purelab Ultra(England)純水機制得;實驗所用器皿為PFA、FEP或PET材質,使用前經30%硝酸浸泡過夜后以超純水反復洗滌。
6N高純Ce(TMHD)4為實驗室自制;14種稀土元素混合標準儲備液(10 mg/L,含Y、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu),以及Cs、Ca、Fe、Cu、Zn等單元素標準儲備液(1 000 mg/L)均購自國家有色金屬及電子材料分析測試中心。

表1 ICP-MS/MS工作參數Table 1 Operating parameters of ICP-MS/MS
準確稱取約0.1 g(精確至0.000 1 g) Ce(TMHD)4粉末樣品于PFA消解罐中,緩慢加入1.0 mL硝酸(超痕量金屬級,68%)并密閉,在電熱板上于120 ℃加熱30 min直至樣品溶解完全,待冷卻后轉移至50 mL容量瓶中并用2%HNO3定容,隨帶流程空白。
經優化后的ICP-MS/MS儀器主要測定參數如表1所示,實驗中根據表中設置儀器參數對樣品進行測試。

常規模式下由于Ce與O的結合能力強,易在等離子體炬焰尾部形成產率大于2%的難熔鈰氧化物(CeO+),構成后續多原子離子干擾的基源,因此需預先盡可能抑制氧化物形成。通常,降低霧室溫度、提高等離子功率以及增加采樣深度均可有效降低難熔氧化物產率;另外,借助氣溶膠稀釋可有效降低等離子體負載,進而提高等離子的溫度而利于難熔氧化物的分解。本研究基于氣溶膠稀釋的HMI以及等離子體炬焰的關鍵參數進行系統研究和聯動優化,將儀器的CeO+/Ce+氧化物含量從3.0%降低至0.3%(相比常規模式改善3~10倍),為后續氧化物復合離子干擾的高效去除奠定了基礎。
基體Ce導致的嚴重多原子復合離子或拖尾干擾主要涉及139La、141Pr、159Tb 、160Gd、172Yb 5個同位素(表2),尤其是Pr與Tb均為單同位素元素,無法直接準確測定。

表2 基體Ce對待測定同位素的潛在干擾Table 2 The preferred detection isotopes for REE and their potential interferences from the matrix

表3 不同分析模式下實際樣品溶液中各稀土金屬雜質離子的含量測定Table 3 Analytical results of the REE metals in a real sample solution with different detection modes (μg/L)
在前述優化的儀器條件及MS/MS模式下,對同一樣品溶液考察了不同碰撞反應池(DRC)條件下的干擾去除效果,結果見表3。以未施加氣體時直接進樣測定結果為對照,結果顯示,經2次四極桿質量分離并結合HMI技術對氧化物產率抑制的效果顯著,所選定的5種待測同位素被干擾程度相比單四極桿質譜分析有明顯降低,尤其159Tb和160Gd的干擾去除有數量級的提升。采用He碰撞模式時發現,除159Tb外其它同位素的干擾去除均有不同程度的改善,其中La的去除尤為顯著,原因可能在于碰撞阻滯效應導致離子動能下降,有助于分辨率提升;而159Tb具有更高的表觀濃度可能由于He與Tb離子碰撞導致聚焦效應。

其它不受干擾的稀土雜質離子測定選擇He碰撞反應池模式以實現碰撞聚焦而有效改善分析靈敏度。
非稀土金屬元素主要涉及40Ca、56Fe受到40Ar+及40Ar16O+的干擾,而單四極桿電感耦合等離子體質譜儀(ICP-QMS)難以實現高基體濃度水平時超低含量Ca及Fe的測定。本研究通過改善等離子體條件,結合串聯質譜技術的二次質量分離能力以及DRC電荷轉移干擾去除技術實現了高基體濃度下的高信/背比測試。
針對Ca的測定,實驗在900 W的RF功率下,選擇3.0 mL/min氫氣流量,結合MS/MS原位質量模式(on mass),Q1過濾掉所有非目標離子以避免反應池中的副反應發生,并進一步通過活性氫與Ar+發生電荷轉移反應實現了高效去除干擾。而針對Fe的測定,發現在冷等離子體條件下40Ar16O+產率雖然隨等離子體的溫度降低而下降,但Fe原子的離子化效率也隨之下降,綜合各種因素,實驗采用在1 200 W的RF功率下結合MS/MS原位質量模式以4.0 mL/min氦氣流量進行碰撞去除干擾。在以上優化條件下對實際樣品的測試結果可滿足高基體條件下低至1.0 μg/L水平以下的Ca、Fe的測定需要。
在Ce(TMHD)4樣品溶液中加入0.1 μg/L REE混合稀土標準溶液及Ca、Fe、Cu、Zn標準溶液并進行測定,計算得所有元素回收率為92.6%~108%,表明方法準確可靠。

圖2 2%HNO3空白溶液中各元素的BECFig.2 Background equivalent concentration of all the analytes in 2% HNO3 blank solution
在優化條件下,基于各元素的工作曲線獲得2% HNO3空白溶液中各種元素的背景等效濃度(Background equivalent concentration,BEC),結果如圖2所示,各稀土金屬元素獲得了超低的BEC值,而Ca、Fe、Cu、Zn 4種元素也獲得了ng/L水平的BEC值,表明方法具有較高的測試信/背比。
根據IUPAC對檢出限(3s)和定量下限(10s)的定義,在優化條件下分別平行測定11次流程空白,獲得了方法以溶液樣品計的檢出限和定量下限,再按稱樣量0.1 g定容50 mL轉換為固體樣品的檢出限和定量下限,結果見表4,方法檢出限為0.001 2~0.071 5 μg/g,表明該方法完全滿足6N相對純度Ce(TMHD)4的測試需求。
應用本文建立的方法對實驗室自制多批次Ce(TMHD)4樣品進行分析,結果見表5,顯示所研制的高純Ce(TMHD)4樣品中雜質金屬元素總量均小于1.0 μg/g,符合6N產品的相對純度標準。

表4 方法檢出限和定量下限Table 4 The detection limits and quanitiation limits of the method
-:not calculated;ND:not detected
本文建立了三重串聯四極桿等離子體質譜技術測定激光光纖用6N超高純四(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)鈰(Ⅳ)螯合物中14種超痕量稀土雜質離子以及Ca、Fe、Cu、Zn 4種典型非稀土雜質離子的分析方法,該方法具有簡潔、快速、準確、靈敏度高、無干擾等優點,可滿足6N及以上純度產品研制及生產的日常樣品批量分析的質量監測需要。