我國科學家研究出一種分米級單晶薄膜的制備新方法

為開辟硅基電子器件之外的新途徑，基于量子材料的新器件研究成為前沿熱點。作為量子材料的重要分支，二維量子材料厚度只有原子級且量子效應顯著，大面積、高質量的二維單晶制備是實現二維器件規模化應用的核心關鍵，然而晶格的非中心反演對稱性給二維單晶生長帶來了極大挑戰。? 在量子調控與量子信息重點專項資助下，北京大學劉開輝課題組與合作者設計出一種具有特殊臺階方向的非中心反演對稱性的單晶晶面Cu（110）/<211>，利用其臺階邊緣與六方氮化硼晶疇中硼型和氮型鋸齒形邊界耦合強度的能量差打破晶疇在襯底表面取向的對稱性，從而實現對六方氮化硼晶疇單一取向的控制生長，并無縫拼接為分米級單晶薄膜。研究還結合原位生長技術與理論計算對生長過程進行了深入動力學研究，提出了全新的生長機理。該研究工作提供了一種制備二維單晶的普適方法，為二維器件規模化應用奠定了基礎。