◆文/山東 劉春暉 張學忠
(接上期)
半導體是指電導率處于強導電性金屬與絕緣體之間的材料。
半導體元件主要由硅(Si)和砷化鎵(GaAs)等半導體材料制成。尤其在半導體技術初期作為生產晶體管原材料的鍺(Ge)由于其邊界層溫度較低(75℃),因此在今天使用的意義已經不大。
如圖46所示,硅晶體內部是由單個硅原子構成的固態結構。每個原子的外部電子殼內都有4個電子,稱為價電子。原子各個方向上都有一個價電子與相鄰元素的相應電子相連,與其形成穩定的電子化合物。每個原子都以這種方式同相鄰電子形成四個穩定的電子化合物。

圖46 硅原子結構
因此,純硅在固態形式下形成晶格,其電阻較高,是一種不良導體。為了有目的地影響或控制半導體的電導率,通過加入更高或更低化合價的雜質可提高純硅晶體的電導率。硅晶格結合外部原子的過程稱為摻雜。在室溫條件下半導體的導電性很低。半導體受到熱、光、電壓形式的能量或磁能影響時,其電導率就會發生變化。
由于半導體對壓力、溫度和光線很敏感,因此也是理想的傳感器材料。
將一個五價元素(例如磷)作為雜質加入一個硅晶體內時,磷原子可以順利地進入硅晶格結構內。
雖然磷原子有五個價電子,但其中只有四個電子能與相鄰的硅原子形成穩定的電子對連接。也就是說還剩余一個自由電子。因此,加入到硅晶體內的磷原子因剩余一個電子而形成晶體缺陷。以這種方式摻雜形成的晶體為N半導體(圖47)。在實際應用中,通常在每一百萬個硅原子中加入一個磷原子形成這種結構。也就是說,向硅元素中添加磷雜質非常困難。

圖47 N摻雜
P摻雜是指向一個硅晶體內加入一個三價元素(例如硼)的雜質。一個硼原子的最外側電子軌道上有三個電子,但需要四個電子與其四個相鄰元素形成穩定的電子對連接。在缺少一個電子的部位留下了一個“洞”。摻雜后帶有這種電子空穴的晶體稱為P半導體(圖48)。電子空穴很容易再次吸收電子,以便重新達到中性狀態。

圖48 P摻雜
通過采用不同的摻雜方式,現在形成了兩種不同的半導體。如圖49所示,將P導電材料和N導電材料結合在一起時,兩種材料之間就會形成一個邊界層,稱為PN結。在環境熱量的影響下,兩個區域邊界層上的電子由N半導體移入P半導體并填補那里的電子空穴,同時在P半導體內留下電子空穴。這樣就在P與P半導體之間的邊界處形成了一個空間電荷區。
當電場足以克服熱振動施加的作用力時,電子轉移結束。溫度越高,空間電荷區越寬,電場越強。在空間電荷之間產生一個電壓。20℃時硅元素的該電壓大約為0.6~0.8V。
向已經形成邊界層的PN結上施加電壓會產生什么效果?
如圖50所示,如果電壓電源正極連接在N半導體上,負極連接在P半導體上,N摻雜半導體中多余的電子就會通過電源進入P摻雜半導體的電子空穴內。這樣邊界層就會擴大,且沒有電流經過硅晶體。
如圖51所示,如果左側連接電壓電源負極,右側連接正極,那么經過N摻雜邊界層就會從電壓電源獲得大量電子,而P摻雜邊界層的電子則被吸收,從而在N摻雜邊界層內會出現更多的剩余電子,而右側區域內則會出現更多的電子空穴。這樣絕緣層就會完全消失并有電流流過。
也就是說PN結作為整流器(二極管)允許電流朝一個方向流動并阻止其向另一個方向流動。

圖49 PN結(無外部電壓)

圖50 通反向電流時的PN結
通過P半導體和N半導體結合形成的元件稱為半導體二極管,簡稱二極管(圖52)。半導體晶體的塑料或金屬殼體用于防止其機械損壞。
兩個半導體層向外導電。陽極為至P層的觸點,陰極為至N層的觸點。在電路圖中使用圖53所示電路符號,電路符號中的箭頭表示電流方向。

圖51 通正向電流時的PN結

圖52 半導體二極管
二極管的作用就像一個電子管,因此可以作為用于交流電流整流的元件。如圖54所示,如果在陽極上施加正電壓,陽極就會切換到流通方向,電流流過二極管。為了防止電流造成二極管損壞,通過負載電阻限制電流。如果在陽極上施加負電壓,則會使其切換到阻隔方向,沒有電流經過二極管。阻隔方向上的電壓過高時可能導致二極管損壞。

圖53 PN結的結構及符號
為區分二極管的兩個接頭時,N側通過一個圓圈或一個點標記出來。在汽車上,二極管既可以作為獨立元件使用,也可以在控制單元中的集成電路內使用。

圖54 二極管特性曲線
從反向的特性曲線看出實際上沒有電流(幾微安)流過。反向電流隨溫度的增加而增加。反方向的電壓稱為反向電壓,簡稱UR,它的電壓范圍在幾百伏到幾千伏。不得超出最高反向電壓,否則二極管將呈導通狀態,流過的電流會導致二極管損壞。