孫善衛(wèi),方超
(安徽國風(fēng)塑業(yè)股份有限公司,安徽合肥230088)
聚酰亞胺(PI)薄膜因其超高的絕緣強(qiáng)度、機(jī)械強(qiáng)度、熱分解溫度和尺寸穩(wěn)定性被廣泛應(yīng)用于電工電氣的絕緣領(lǐng)域。隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展,電機(jī)的能量密度越來越大,對(duì)電機(jī)的絕緣材料提出了更高的要求。大功率電機(jī)的載流大,產(chǎn)生的熱量更高;熱量不及時(shí)傳導(dǎo),會(huì)使電機(jī)內(nèi)部溫度升高,電子元器件熱脹形變,降低電機(jī)效率,甚至導(dǎo)致電機(jī)燒毀。因此在保持聚酰亞胺薄膜原有性能的同時(shí),提高其導(dǎo)熱性,已成為電氣級(jí)聚酰亞胺研究的重點(diǎn)。目前國內(nèi)能夠批量生產(chǎn)高導(dǎo)熱聚酰亞胺薄膜的廠家極少,主要產(chǎn)能均集中在國外,其中美國杜邦公司的Kapton R MT是一款明星產(chǎn)品,通過加入氧化鋁填料將聚酰亞胺的導(dǎo)熱系數(shù)從0.2 W/m·K 提高到0.46 W/m·K。
目前利用高導(dǎo)熱的粒子填充到聚合物基體來提高聚合物導(dǎo)熱性是一種常見的提高導(dǎo)熱性的方法。常用的高導(dǎo)熱粒子主要分為兩類:一類是金屬粉末,一類是無機(jī)粒子。其中金屬粉末如銅粉、銀粉、鋁粉等,其導(dǎo)熱機(jī)理是通過金屬內(nèi)部自由移動(dòng)的電子來傳遞熱量,而自由電子使金屬粉末具有很強(qiáng)的導(dǎo)電性,會(huì)大幅降低聚酰亞胺薄膜的絕緣強(qiáng)度,并不適合絕緣材料使用。無機(jī)粒子包括氧化鋁、氮化鋁、氮化硼等無機(jī)顆粒,這些無機(jī)顆粒具有細(xì)密的晶格,可以通過晶格的振動(dòng)將熱量快速傳遞出去,而且沒有可以自由移動(dòng)的電子,因此這些顆粒具有較高的導(dǎo)熱性和絕緣性,是制備高導(dǎo)熱絕緣聚酰亞胺薄膜的首選。
使用無機(jī)粒子制備高導(dǎo)熱聚酰亞胺薄膜的關(guān)鍵是讓無機(jī)顆粒在聚酰亞胺基體內(nèi)形成完整的導(dǎo)熱網(wǎng)絡(luò)。熱量可以通過無機(jī)顆粒構(gòu)成的導(dǎo)熱網(wǎng)絡(luò)直接傳導(dǎo)出去,而當(dāng)導(dǎo)熱網(wǎng)絡(luò)不完整時(shí),無機(jī)顆粒和聚酰亞胺基體之間的相界面會(huì)產(chǎn)生很大的熱阻,導(dǎo)熱性能較差。影響無機(jī)導(dǎo)熱網(wǎng)絡(luò)形成的主要因素有填充量、粒子-基體相容性、粒子微觀結(jié)構(gòu)、粒子取向等。
導(dǎo)熱通路是導(dǎo)熱粒子與粒子直接在聚合物基體連接形成的,這就需要較高的填充量才能保證粒子與粒子相結(jié)合。無機(jī)粒子和聚合物基體的極性差異較大,兩者相容性不好,材料的機(jī)械性能和導(dǎo)熱性能不佳,可以采用偶聯(lián)劑對(duì)無機(jī)顆粒表面改性的方法提高相容性,從而提升材料的機(jī)械性能,降低界面熱阻,提高導(dǎo)熱性能。無機(jī)粒子的微觀結(jié)構(gòu)決定了聚合物基體內(nèi)導(dǎo)熱通路的形態(tài)。使用不同微觀結(jié)構(gòu)的無機(jī)顆粒復(fù)配,可以使無機(jī)粒子之間結(jié)構(gòu)產(chǎn)生互補(bǔ)作用,提高導(dǎo)熱性。在聚合基體中的無機(jī)粒子會(huì)隨著聚合物的加工過程發(fā)生取向變化,導(dǎo)致聚合物導(dǎo)熱網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)改變,從而影響導(dǎo)熱性能。
六方氮化硼(h-BN)作為一種導(dǎo)熱性非常好的無機(jī)粒子,其內(nèi)部的原子結(jié)構(gòu)類似于石墨烯,呈層狀排布,因此和石墨一樣具有超高的導(dǎo)熱性,其中微米級(jí)的h-BN的導(dǎo)熱系數(shù)更是高達(dá)300 W/m·K。和石墨不同,氮化硼內(nèi)部不含有可以自由移動(dòng)的電子,其絕緣強(qiáng)度可達(dá)800 V/μm。由于其具有優(yōu)異的導(dǎo)熱性和絕緣強(qiáng)度,因而被廣泛應(yīng)用于提高高導(dǎo)熱絕緣材料的制備。然而氮化硼的微觀結(jié)構(gòu)為片狀,在聚合物薄膜拉伸過程中極容易水平取向,大量氮化硼呈水平分布,導(dǎo)致熱量更容易延膜面?zhèn)鬟f,而在薄膜內(nèi)外層之間的導(dǎo)熱性要差得多,國內(nèi)外很多文獻(xiàn)對(duì)此做了深入研究。
Song等利用氮化硼和PVA復(fù)合,經(jīng)過三倍拉伸制得高導(dǎo)熱PVA 薄膜,其中氮化硼的添加量為15%。經(jīng)過高倍率拉伸后,氮化硼的水平取向很劇烈,導(dǎo)致測(cè)試其膜面的導(dǎo)熱系數(shù)高達(dá)13 W/m·K。Lin 等在氮化硼表面接枝具有磁性的納米顆粒如γ-FeO,通過磁場(chǎng)來誘導(dǎo)氮化硼顆粒取向,并使用這種方法制備了氮化硼-環(huán)氧樹脂復(fù)合材料。測(cè)試導(dǎo)熱系數(shù)發(fā)現(xiàn),控制取向的復(fù)合材料導(dǎo)熱系數(shù)為0.9 W/m·K,遠(yuǎn)高于未控制取向的0.4 W/m·K。Lim通過高壓電場(chǎng)讓氮化硼垂直取向,其制備的導(dǎo)熱硅橡膠的導(dǎo)熱系數(shù)可達(dá)4.7 W/m·K,其導(dǎo)熱性能有很大提高。Tanimoto 等系統(tǒng)研究了氮化硼的粒徑、含量、形狀對(duì)聚酰亞胺材料導(dǎo)熱性能的影響,結(jié)果表明,氮化硼顆粒越大,聚酰亞胺分子剛性越高,導(dǎo)熱性能越好,顆粒在基體內(nèi)部取向越劇烈,導(dǎo)熱系數(shù)的各項(xiàng)異性越明顯。
高導(dǎo)熱聚酰亞胺薄膜主要應(yīng)用于大功率電機(jī)的絕緣繞組,其熱量在膜面快速傳播,非常有利于散熱,但是更重要的是將熱量及時(shí)從金屬線圈通過絕緣薄膜傳遞到外面,這對(duì)薄膜上下兩面之間的導(dǎo)熱性提出了很高的要求。
α-氧化鋁的微觀結(jié)構(gòu)為球狀,在聚合物中分散取向不明顯,且其絕緣性能優(yōu)異,因此也常被用于制備高性能絕緣材料。然而其導(dǎo)熱系數(shù)為30 W/m·K,由于其熱導(dǎo)率相對(duì)于其他高導(dǎo)熱填料比較低,因此在高導(dǎo)熱絕緣材料制備中經(jīng)常與其他導(dǎo)熱填料復(fù)配。Wang等使用不同粒徑的氧化鋁和氮化硅復(fù)配制備的高導(dǎo)熱硅橡膠的導(dǎo)熱系數(shù)可達(dá)到1.48~2 W/m·K。章文捷等利用氧化鋁和氮化鋁復(fù)配制得的有機(jī)硅灌封用漿液,其導(dǎo)熱系數(shù)可達(dá)0.89 W/m·K。周文英等利用氧化鋁、氮化鋁、碳化硼為導(dǎo)熱填料,酚醛樹脂和環(huán)氧樹脂為基體,制備出了導(dǎo)熱系數(shù)為0.99 W/m·K,介電常數(shù)為6,體積電阻為4.6×10Ω·m的高導(dǎo)熱膠黏劑。
考慮到微米級(jí)氮化硼具有優(yōu)異的導(dǎo)熱性,但其取向作用明顯,導(dǎo)熱薄膜各向異性突出;氧化鋁顆粒取向不明顯,導(dǎo)熱系數(shù)稍低。本文使用微米級(jí)的氮化硼、亞微米級(jí)的氧化鋁和納米級(jí)的氧化鋁三種導(dǎo)熱填料復(fù)配,并對(duì)其表面使用硅烷偶聯(lián)劑KH550 進(jìn)行改性,制備出了一系列高導(dǎo)熱聚酰亞胺薄膜,并對(duì)其導(dǎo)熱性、絕緣強(qiáng)度、力學(xué)性能及熱穩(wěn)定性做了研究。

表1 試驗(yàn)藥品

表2 試驗(yàn)及測(cè)試儀器
稱取5 g微米級(jí)氮化硼(粒徑2~4 μm),加入100 g 50%的NaOH 溶液,超聲分散2 h,室溫放置12 h。過濾洗滌至洗滌液呈中性,干燥粉碎得表面活化的微米級(jí)氮化硼。將活化好的氮化硼加入250 mL 的N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)中分散均勻,加入KH550,攪拌均勻后,超聲處理2 h,通氮保護(hù)反應(yīng)12 h。過濾,使用無水乙醇洗滌,烘干粉碎,制得表面改性后的微米級(jí)氮化硼。
亞微米級(jí)氧化鋁(粒徑0.3~0.5 μm)和納米級(jí)氧化鋁(粒徑50~100 nm)表面處理方式與氮化硼類似,由于氧化鋁表面有較多羥基,因此不需要表面活化處理,直接在DMAc 體系中加入KH550,超聲、過濾、洗滌、干燥即可。
將處理好的無機(jī)粒子加入三口燒瓶中,加入DMAc,超聲分散2 h,在分散液中加入4,4′-二氨基二苯醚(ODA),待完全溶解后分步加入均苯四甲酸二酐(PMDA),此時(shí)聚合物基體粘度逐漸提高,待粘度升高到200 PaS 左右時(shí),停止加入PMDA,繼續(xù)攪拌2 h。取出真空脫泡,得聚酰胺酸漿料。
將脫完泡的聚酰胺酸漿料均勻放置在鏡面拋光的鋼板上,調(diào)整涂抹器刮刀的間距,將聚酰胺酸漿料均勻刮涂在鋼板上。將鋼板置于60℃烘箱中1 h,轉(zhuǎn)移到120℃烘箱中0.5 h,再轉(zhuǎn)移到180℃烘箱中0.5 h,再轉(zhuǎn)移到250℃烘箱中10 min,再轉(zhuǎn)移到350℃烘箱中5 min,最后轉(zhuǎn)移到440℃烘箱中3 min。冷卻后,取下薄膜即得高導(dǎo)熱聚酰亞胺薄膜。
無機(jī)顆粒紅外光譜分析按照KBr壓片法,薄膜按照GB/T 13542.2-2009 的方法測(cè)試絕緣強(qiáng)度。按照GB/T 1040.3-2006的方法測(cè)試?yán)鞆?qiáng)度。導(dǎo)熱系數(shù)測(cè)試時(shí)溫度為20℃,每2 min 取樣。熱失重分析氣氛為氮?dú)猓郎厮俾蕿?0℃/min。
將活化前的氮化硼、NaOH活化后的氮化硼、KH550改性后的氮化硼通過紅外光譜儀測(cè)試,其紅外吸收譜圖如圖1。將KH550 表面改性前后的氧化鋁通過紅外光譜儀測(cè)試,其紅外吸收譜圖如圖2。

圖1 活化改性前后氮化硼紅外吸收譜圖

圖2 改性前后氧化鋁的紅外吸收譜圖
由圖1 可以看出,NaOH 活化處理前的氮化硼在3 200 cm左右處幾乎沒有吸收峰,這說明未活化的氮化硼表面基本不含有羥基;而在使用NaOH溶液活化處理后,其在3 280 cm處出現(xiàn)吸收峰,這說明NaOH的確在氮化硼表面刻蝕出了羥基。使用KH550改性后的氮化硼在2 922 cm、2 858 cm處有-CH-的對(duì)稱和不對(duì)稱的伸縮振動(dòng)峰,且在1 107 cm和1 078 cm處出現(xiàn)了Si-O 的振動(dòng)峰,原本3 280 cm的羥基峰消失,3 363 cm處出現(xiàn)了峰寬更寬的N-H吸收峰,這些都是硅烷偶聯(lián)劑KH550 的特征吸收峰,說明硅烷偶聯(lián)劑已經(jīng)通過化學(xué)鍵的方式連接在了氮化硼顆粒上。
由圖2可以看出,在3 000 cm以上氧化鋁出現(xiàn)很多細(xì)小的峰,這應(yīng)該是氧化鋁表面不同位置的羥基峰。經(jīng)過表面改性后,硅烷偶聯(lián)劑的氨基取代了羥基,這些氨基依然分布在不同位置,所以3 000 cm以上依然保留很多細(xì)小的峰。而改性后的氧化鋁在2 922 cm、2 858 cm處出現(xiàn)了-CH-的對(duì)稱和不對(duì)稱伸縮振動(dòng)峰,在1 107 cm、1 078 cm處出現(xiàn)了Si-O的振動(dòng)吸收峰,這也說明硅烷偶聯(lián)劑KH550連接到了氧化鋁顆粒上。
KH550結(jié)構(gòu)中含有氨基,可以和單體中的二酐發(fā)生反應(yīng),從而讓無機(jī)顆粒和聚酰亞胺間結(jié)合更緊密,降低界面熱阻,提高機(jī)械性能。
單獨(dú)使用改性后的微米級(jí)氮化硼、亞微米級(jí)氧化鋁、納米級(jí)氧化鋁作為導(dǎo)熱填料,制備出的聚酰亞胺薄膜測(cè)試其薄膜基體的導(dǎo)熱系數(shù)和拉伸強(qiáng)度數(shù)據(jù)如圖3。
由圖3可以明顯看出,微米級(jí)氮化硼的添加對(duì)薄膜基體導(dǎo)熱系數(shù)提升作用不明顯。這是因?yàn)榈鸬奈⒂^結(jié)構(gòu)為片狀,會(huì)在聚酰亞胺薄膜流延中取向,趨向于水平分布,這就導(dǎo)致薄膜內(nèi)部的氮化硼均處于水平層狀分布,在水平層形成導(dǎo)熱通路。而氮化硼顆粒的厚度很小,所以在薄膜內(nèi)部的豎直方向無法形成完整的導(dǎo)熱通路,熱量通過薄膜一面?zhèn)鬟f到另一面需要經(jīng)過一系列相界面,其界面熱阻造成熱傳導(dǎo)效率低下,薄膜的導(dǎo)熱系數(shù)很低。
亞微米級(jí)和納米級(jí)的氧化鋁隨著導(dǎo)熱填料量的提高,其導(dǎo)熱系數(shù)逐步提高,在40%~50%時(shí)導(dǎo)熱系數(shù)提高最為明顯,這是因?yàn)檠趸X顆粒的微觀結(jié)構(gòu)屬于球狀,其在聚合物基體內(nèi)均勻分布,且取向?qū)ζ溆绊懖淮螅荒芡ㄟ^提高填充量來提高導(dǎo)熱系數(shù)。當(dāng)基體填充量較少時(shí),氧化鋁顆粒在薄膜內(nèi)相互連接的可能性較低,熱量需要通過聚合物基體和氧化鋁的相界面進(jìn)行傳導(dǎo),其熱阻很大,傳導(dǎo)效率低,導(dǎo)熱系數(shù)低;而當(dāng)氧化鋁含量超過40%后,大量的氧化鋁顆粒在薄膜基體內(nèi)部直接連接,形成完整的導(dǎo)熱通路,這樣大大降低了界面熱阻,提高了導(dǎo)熱系數(shù)。
由圖3拉伸強(qiáng)度數(shù)據(jù)來分析,在填充微米級(jí)氮化硼和亞微米級(jí)氧化鋁的體系中,拉伸強(qiáng)度隨添加量的提高而降低,而在添加納米氧化鋁的體系中,拉伸強(qiáng)度幾乎保持不變還略有提高。這是因?yàn)闊o機(jī)顆粒粒徑過大后,其與基體的結(jié)合力較差,相界面間會(huì)產(chǎn)生缺陷,導(dǎo)致材料拉伸強(qiáng)度下降。而改性后的納米顆粒與聚合物間的結(jié)合比較緊密,且納米顆粒還充當(dāng)了部分物理交聯(lián)點(diǎn)的作用,進(jìn)一步提高了拉伸強(qiáng)度。

圖3 不同導(dǎo)熱填料對(duì)薄膜導(dǎo)熱系數(shù)和拉伸強(qiáng)度的影響

圖4 復(fù)配填充對(duì)薄膜導(dǎo)熱系數(shù)、拉伸強(qiáng)度、絕緣強(qiáng)度的影響
本文選用表面改性后微米級(jí)的氮化硼、亞微米級(jí)的氧化鋁和納米級(jí)的氧化鋁,按照質(zhì)量比5∶3∶2 的比例制成混合填充物。其填充量與導(dǎo)熱系數(shù)、拉伸強(qiáng)度、絕緣強(qiáng)度的關(guān)系如圖4,制成薄膜的熱失重曲線如圖5。

圖5 薄膜熱失重曲線
由圖4可以看出,拉伸強(qiáng)度隨著填充量的增加而降低,降低速率比單純使用氮化硼和亞微米級(jí)的氧化鋁要慢。這是因?yàn)楸∧ぶ屑尤肷倭康募{米氧化鋁,一方面降低了大顆粒含量,另一方面納米氧化鋁可以充當(dāng)部分物理交聯(lián)點(diǎn)來提高薄膜拉伸強(qiáng)度。隨著填充量的提高,薄膜的絕緣強(qiáng)度并沒有明顯變化,都在250 V/μm 以上。這是因?yàn)檠趸X和氮化硼本身的絕緣強(qiáng)度非常高,不會(huì)因?yàn)榇罅刻畛湫纬赏泛螅岣弑∧?dǎo)電性。由圖5的失重曲線可以看出,制備的聚酰亞胺薄膜的耐熱性能非常好,在550℃下幾乎不分解,在550℃以上部分分解,但是直至700℃聚酰亞胺薄膜依然沒有完全分解,只分解了不到40%。而隨著填充量的進(jìn)一步增大,分解量越來越小。這是因?yàn)樘畛涞臒o機(jī)物氮化硼、氧化鋁的耐高溫性能更出眾,在700℃下幾乎不分解,所以高導(dǎo)熱填充不會(huì)降低聚酰亞胺的熱穩(wěn)定性。從熱失重圖上還可以看出,填充量增多后,薄膜的分解溫度有所提高,這是納米氧化鋁的作用,其在聚合物基體內(nèi)形成物理交聯(lián)點(diǎn),使聚合物分子鏈之間結(jié)合更緊密,從而將初始分解溫度從550℃提高到570℃。
由圖4 可以看出,隨著復(fù)合填充量的逐步加大,聚酰亞胺薄膜的導(dǎo)熱系數(shù)不斷提高,當(dāng)復(fù)合填充量達(dá)到50%時(shí),其導(dǎo)熱系數(shù)可以達(dá)到0.78 W/m·K,相對(duì)于原膜0.2 W/m·K提高了接近300%;在相同填充下,相對(duì)于單獨(dú)使用氮化硼的0.31 W/m·K、氧化鋁的0.50 W/m·K 也提高了150%和50%,其絕緣強(qiáng)度依然可以保持在250 V/μm 以上。復(fù)合填充在薄膜內(nèi)部的導(dǎo)熱機(jī)理如圖6所示。

圖6 復(fù)合填充提高導(dǎo)熱率機(jī)理示意圖
由圖6可以明顯看出,當(dāng)填充物全部為微米級(jí)氮化硼時(shí),在薄膜的流延方向,薄膜的片狀晶體取向以及膜面的導(dǎo)熱性很好。由于氮化硼取向嚴(yán)重,在薄膜的豎直方向,氮化硼不能形成完整的導(dǎo)熱通路,故其豎直方向?qū)崧屎艿汀6尤雭單⒚准?jí)的氧化鋁和納米級(jí)的氧化鋁后,由于其球狀的微觀結(jié)構(gòu),其取向度很小,可以均勻分布在聚合物基體中。這些氧化鋁顆粒一方面阻礙了氮化硼顆粒的取向,一方面在氮化硼顆粒間形成橋梁作用,使導(dǎo)熱通路構(gòu)成更加完整。亞微米級(jí)和納米級(jí)氧化鋁的加入,填補(bǔ)了大顆粒之間連接處的縫隙,讓導(dǎo)熱通路更加密集。所以復(fù)合填充制備的聚酰亞胺薄膜的導(dǎo)熱系數(shù)最高。
本文使用KH550改性后的微米級(jí)氮化硼、亞微米級(jí)氧化鋁、納米級(jí)氧化鋁作為導(dǎo)熱填料,按照質(zhì)量比5∶3∶2的比例加入到聚酰胺酸溶液中,制備了高導(dǎo)熱聚酰亞胺薄膜,當(dāng)導(dǎo)熱填料量為50%時(shí),薄膜的導(dǎo)熱系數(shù)可達(dá)0.78 W/m·K,絕緣強(qiáng)度保持在250 V/μm,初始分解溫度達(dá)570℃,拉伸強(qiáng)度147 MPa。