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溫度影響epoxy/C-S-H 界面黏結性能的分子動力學模擬

2022-11-07 12:33:18楊清瑞金祖權侯東帥
建筑材料學報 2022年10期
關鍵詞:界面混凝土環境

楊清瑞,金祖權,王 攀,侯東帥

(青島理工大學土木工程學院,山東 青島 266033)

作為傳統混凝土材料的替代品之一,纖維增強復合材料(FRP)加固混凝土已經得到了廣泛的應用[1-2].這種混凝土通常是依靠環氧樹脂(epoxy)將FRP 與混凝土粘結在一起,使之共同受力[3].研究表明,FRP 加固混凝土的耐久性能在很大程度上取決于epoxy/混凝土界面的黏結性能[4].在結構服役期間,該界面將不可避免地受到熱環境的影響.然而,受制于試驗精度與尺度,現有研究對epoxy/混凝土界面劣化的微觀機理仍缺乏清晰的認識.

分子動力學(MD)模擬技術為解決上述難題提供了新的途徑.但是,混凝土表面成分復雜,在分子尺度上予以統一表征是困難的.鑒于水化硅酸鈣(C-S-H)是混凝土材料的主要成分及強度來源[5-6],且epoxy 與C-S-H 的局部鍵合界面在納米尺度上具有可比性.因此,研究局部epoxy/C-S-H 界面的鍵合性質,對于探索epoxy/混凝土界面的性能具有重要意義[7-8].

本文采用MD 模擬技術,研究epoxy/C-S-H 界面在不同溫度條件下的力學響應,揭示熱環境對epoxy/C-S-H 界面的劣化機理,為解碼epoxy/混凝土界面黏結機制的演變規律提供分子尺度的見解.

1 模擬方法

1.1 模型建立

Epoxy 分子由40 個雙酚A 二縮水甘油醚(DGEBA)和20 個間苯二胺(m-PDA)交聯而成,交聯度為80%(見圖1(a)).交聯過程如下:

(1)確定反應半徑內DGEBA 和m-PDA 中的反應原子,由被識別的反應原子所組成的化學鍵(DGEBA 中的C—O 鍵和m-PDA 中的N—H 鍵)被破壞.

(2)當C 原子和N 原子之間的距離小于交聯反應半徑時,形成C—N 共價鍵,DGEBA 和m-PDA 通過C—N 鍵交聯,未形成共價鍵的原子被H 原子飽和.反應半徑從0.3 nm 逐漸增大到1.0 nm,間隔為0.05 nm,且每次進入下一個反應過程之前,均對交聯結構執行馳豫優化,以確保體系能量合理并減少幾何畸變.

C-S-H 界面通過切割原始C-S-H 凝膠模型(n(Ca)/n(Si)=1.69)獲得.C-S-H 凝膠模型的建立基于tobermorite-1.1 nm 層狀結構,具體方法如下:

(1)從橋接點位打斷tobermorite-1.1 nm 中完整的硅酸鹽鏈,以匹配核磁共振(NMR)測試中得到的C-S-H 硅酸鹽鏈的實際分布特征[9].

(2)去除tobermorite-1.1 nm 中分布有序的水分子,利用grand canonical Monte Carlo(GCMC)方法將水分子隨機分散于C-S-H 層間區域,直到飽和[10-11].飽和的C-S-H 分子式 為(CaO)1.69·SiO2·2H2O,與Allen 等[12]得到的(CaO)1.7·SiO2·1.8H2O 高度匹配.

(3)在等溫等壓(NPT)系綜下對飽和C-S-H 馳豫1 000 ps,得到接近真實形態的C-S-H 凝膠模型(見圖1(b)).

為建立epoxy/C-S-H 界面模型,需要對所建立的C-S-H 分子模型做進一步處理.首先,沿層間區域([001]方向)切割C-S-H,使切割后的C-S-H 基體在Z方向上暴露出表面;同時,在X-Y方向上保持周期性,以保證C-S-H 在X-Y方向上連續,得到C-S-H 基體的尺寸為x=6.480 nm,y=6.756 nm,z=2.700 nm;最后,將epoxy 分子置于C-S-H 界面上方,并在Z方向上留置足夠的真空區域(>5.0 nm),以便進行epoxy/C-S-H 界面的力學響應模擬.構建好的epoxy/C-S-H 界面模型如圖1(c)所示.

圖1 分子模型示意圖Fig.1 Schematic diagram of molecular models

1.2 力場選擇

選用聯合力場來計算epoxy 與C-S-H 之間的原子相互作用.C-S-H 基體采用ClayFF 力場,該力場主要用于計算礦物材料、水泥基材料等原子間的相互作用,已被成功用于模擬C-S-H、SiO2的結構性質及界面特性研究[13-14].交聯epoxy 采用CVFF 力場,該力場已被廣泛應用于模擬環氧基體系的原子間相互作用勢[15].此外,這種聯合力場方法(ClayFF+CVFF)已成功應用于模擬水泥基材料與聚合物之間的界面特性研究中[16-17].

1.3 模擬過程

模擬過程依靠Lammps 軟件實現.模擬分為2 個部分:平衡態模擬與拉伸分子動力學(SMD)模擬.首先,初始的epoxy/C-S-H 界面模型在正則(NVT)系綜中模擬4 ns,時間步長為1 fs,并使用Nosé-Hoover 恒溫器分別控制模擬溫度為300、320、340、360 K.范德華力和短程靜電相互作用的截斷距離設定為1 nm,而長程靜電相互作用采用particleparticle-particle-mesh(PPPM)方法進行計算.為保證平衡態分析的可靠性,有關分析數據均取自于平衡態模擬最后1 ns 軌跡區段的時間平均值.其次,為了確定epoxy/C-S-H 界面在不同溫度條件下的力學行為,采用SMD 模擬方法模擬了epoxy 從C-S-H 界面的剝落過程.在SMD 模擬中,epoxy 的質心受到拉力作用,拉伸速度為2.5 m/s,彈簧常數為0.000 21 kJ/(mol·nm2),以確保界面的力學響應在外力作用下能夠充分顯現.

2 結果與討論

2.1 熱環境下界面力學響應的變化

圖2 為不同溫度條件下epoxy/C-S-H 界面的拉伸曲線.由圖2 可見:

圖2 不同溫度條件下下epoxy/C-S-H 界面的拉伸曲線Fig.2 Tensile curves of the epoxy/C-S-H interface at different temperatures

(1)Epoxy/C-S-H 界面發生整體脫黏破壞所需要的時間隨著溫度的升高明顯縮短.當溫度由300 K升高至320、340、360 K 時,epoxy所能達到的最大位移值由2.6 nm 減小至2.3、1.8、1.6 nm,降幅分別達到11.5%、30.8% 和38.5%,這表明高溫環境不利于epoxy/C-S-H界面的變形性能,epoxy分子的變形能力減弱.

(2)Epoxy 所能承受的最大拉力隨模擬溫度的升高而明顯下降.當界面處于室溫條件(300 K)時,epoxy 所能承受的最大拉力達到1.264 kJ/(mol·nm),然而,當溫度升高至320、340、360 K 后,最大拉 力分別下降至1.296、0.879、0.812 kJ/(mol·nm),降幅分別達到3.3%、30.0%和36.7%,這表明高溫環境不利于epoxy/C-S-H界面的力學性能,界面黏結性能減弱,這與宏觀試驗趨勢相吻合[18].

圖3 為界面脫黏過程中的構型圖.由圖3 可見:不同溫度條件下,拉力-位移曲線的發展趨勢幾乎相同;在初始變形階段,拉力線性增加,此時變形主要發生在交聯epoxy 的內部;在局部破壞階段,epoxy 開始從C-S-H 表面脫黏,此時拉力-位移曲線呈現反復波動狀,對應于脫黏過程的逐步擴展;在整體破壞階段,拉力突然下降,epoxy 與C-S-H 表面完全脫離.

圖3 界面脫黏過程中的構型圖Fig.3 Conformational diagram of the epoxy/C-S-H interface during de-bonding process

2.2 熱環境對epoxy 吸附穩定性的影響機理

圖4 為不同溫度條件下epoxy 的數密度曲線.由圖4 可見:當溫度為300 K 時,epoxy 在距離C-S-H 界面0~1.0 nm 范圍內存在明顯的數密度峰,即epoxy被C-S-H 吸引并聚集在界面區域,這表明在室溫條件下epoxy/C-S-H 界面的黏結性能良好;隨著溫度的升高,epoxy 的數密度峰呈現出明顯的后移趨勢,且峰值顯著下降,epoxy 的質心高度也由3.689 nm 逐漸增大到3.972、3.967、3.998 nm,這表明高溫環境下epoxy 逐漸變得松散,這與“溫度升高,環氧樹脂黏結性能下降”的試驗現象相符[19],此時epoxy/C-S-H 界面的黏結性能衰退.

圖4 不同溫度條件下epoxy 的數密度曲線Fig.4 Number density curves of epoxy at different temperatures

圖5 為不同溫度條件下epoxy 的均方位移(MSD)曲線.由圖5 可見:在4 ns 模擬區段內,epoxy的MSD 曲線均先增大,而后分別圍繞某一穩定值持續波動,這表明epoxy 已充分達到平衡,此時可通過MSD 均值來比較epoxy 在不同溫度條件下的動力學性質;隨著溫度的升高,epoxy 的MSD 值逐漸增大,這表明高溫環境促進了epoxy 的運動能力,不利于epoxy 在C-S-H 表面的吸附穩定性.

圖5 不同溫度條件下epoxy 的均方位移曲線Fig.5 Mean square displacement curves of epoxy at different temperatures

2.3 熱環境對epoxy/C-S-H 界面黏結性能的弱化機理

為探索熱環境下epoxy/C-S-H 界面黏結弱化的機理,計算了不同溫度條件下epoxy 與C-S-H 基體之間的相互作用能.Epoxy 與C-S-H 之間的相互作用能(EInteraction)通過下式求得[20]:

式 中:Eepoxy&C-S-H為平衡態時epoxy 和C-S-H 的總能量,kJ/mol;Eepoxy為epoxy 的能量,kJ/mol;EC-S-H為C-S-H 基體的能量,kJ/mol.

圖6 為不同溫度條件下epoxy 和C-S-H 之間的相互作用能.由圖6 可見,epoxy 與C-S-H 之間的相互作用能(絕對值)隨溫度的升高而降低,說明epoxy 與C-S-H 之間的相互作用力減弱、黏結有效性下降,這也是熱環境下epoxy/C-S-H 界面力學性能下降的主要原因之一.

圖6 不同溫度條件下epoxy 和C-S-H 之間的相互作用能Fig.6 Interaction energy between epoxy and C-S-H at different temperatures

為調查熱環境下epoxy/C-S-H 界面區域的鍵結情況,計算了不同溫度條件下epoxy 與C-S-H 基體之間原子對X-Y的徑向分布函數G(r).徑向分布函數定義為以X原子為中心,在距離X原子r處發現Y原子的概率,表示2 種原子之間在彼此空間中占有的幾率,可用來定性地研究物質的微觀結構.

圖7 為不同溫度條件下原子之間的徑向分布函數曲線,圖中CaS表示C-S-H 基體表面的Ca 離子,OC-S-H與HC-S-H分別表示C-S-H 基體的O 原子與H 原子,Oepoxy與Hepoxy分別表示epoxy 的O 原子與H 原子.由圖7 可見:

圖7 不同溫度條件下原子對的徑向分布函數Fig.7 Radial distribution functions of atom pairs at different temperatures

(1)當溫度為300 K 時,CaS-Oepoxy的徑向分布函數曲線在0.245 nm 處出現明顯峰值,標記0.245 nm為CaS-Oepoxy離子對的最可幾距離,這表明epoxy 與C-S-H 之間存在較強的離子鍵合作用.當溫度升高時,CaS-Oepoxy的徑向分布函數曲線峰值明顯減弱,說明CaS-Oepoxy離子對之間的有序度下降,離子鍵合作用被削弱.

(2)HC-S-H-Oepoxy和OC-S-H-Hepoxy的徑向分布函數曲線分別在0.165、0.140 nm 處出現明顯峰值,峰值位置均小于形成氫鍵所需的距離閾值(0.245 nm),這表明epoxy 與C-S-H 基體之間形成了氫鍵網絡.隨著溫度的升高,HC-S-H-Oepoxy和OC-S-H-Hepoxy的徑向分布函數曲線峰值均出現下降,這說明無論epoxy 作為氫鍵供體還是氫鍵受體,其與C-S-H 基體之間的氫鍵相互作用均隨溫度的升高而減弱.

表1 為不同溫度條件下epoxy 與C-S-H 基體之間原子對的平均配位數目.由表1 可見:當溫度為300 K 時,CaS平均與0.679 個Oepoxy配位.當溫度升高至320、340、360 K 時,CaS-Oepoxy之間的平均配位數下降至0.325、0.237 和0.204,下降幅度明顯;HC-S-H-Oepoxy和OC-S-H-Hepoxy的平均配位數也展示出相似趨勢,這表明熱環境破壞了epoxy 與C-S-H 之間的離子鍵作用和氫鍵作用,界面鍵合能力下降,并最終導致界面黏結性能弱化.從表1 中還可以看出,OC-S-H-Hepoxy的平均配位數遠高于HC-S-H-Oepoxy的平均配位數,這表明epoxy 更傾向于充當氫鍵供體與C-S-H 形成氫鍵網絡.

表1 不同溫度條件下epoxy 與C-S-H 基體之間相應原子對的平均配位數Table 1 Average coordination numbers of corresponding atomic pairs between epoxy and C-S-H substrates at different temperatures

3 結論

(1)在熱環境與外部荷載的耦合作用下,epoxy更容易從C-S-H 界面脫落,即epoxy/C-S-H 界面的力學性能下降.

(2)熱環境影響epoxy 在C-S-H 表面的吸附穩定性.隨著溫度的升高,epoxy 在C-S-H 表面出現輕微脫黏現象,且epoxy 的運動能力隨著溫度的升高而增強,不利于epoxy/C-S-H 界面的黏結性能.

(3)熱環境導致epoxy 與C-S-H 之間的相互作用能降低,epoxy/C-S-H 界面的黏結有效性減弱.離子鍵作用與氫鍵作用是epoxy/C-S-H 界面黏結性能的重要保障,而熱環境顯著削弱了這些鍵合作用,并最終導致界面黏結性能衰退.

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