AIXTRON憑硅基氮化鎵系統AIX G5+C獲頒商業雜志榮譽獎項

AIXTRON憑硅基氮化鎵系統AIX G5+C獲頒商業雜志榮譽獎項

全球半導體行業沉積設備供應商AIXTRON憑借其全自動新產品——金屬氧化物化學汽相沉積（MOCVD）系統AIX G5+C，獲商業雜志Compound Semiconductor頒授2016 年CS High-Volume Manufacturing Award獎項。該獎項是業界對國際化合物半導體行業內的關鍵創新領域進行評判，圍繞芯片制造工藝流程，強調對業界發展所作出的貢獻。

AIXTRON方面表示，AIX G5+C是全球首套完備的MOCVD系統解決方案，可以滿足硅基氮化鎵LED和功率器件領域的外延類產品需求。該產品融合兩項關鍵性創新，在針對大容量的150 mm和200 mm晶圓的批量處理系統中，AIXTRON實現連續的LED或HEMTMOCVD工藝流程，無需進行傳統的交互操作。這是首個關于硅CMOS生產線MOCVD操作的行業標準方案，將晶圓匣盒間轉運處理自動化方法加入到MOCVD批量處理技術中。AIX G5+C簡化了硅晶圓廠的硅晶圓處理方式和工藝流程，同時保證最高效的產出。AIXTRON獨有的器內清潔程序可全面控制室內條件，無需再進行外部清潔，也無需在清潔完畢后對MOCVD反應器進行重新調試。整個清潔過程自動進行，無組件拆卸等器外清潔或調試操作。

（編譯：李星悅，審校：張禮懌，趙博）

來源：http://www.compoundsemiconductor.net/article/ 98865-aixtron-receives-cs-high-volume-manufacturing-award.html