付少帥 李振振 劉慧麗
摘 要:本文通過采用關鍵詞和IPC、CPC分類號相結合的方式對CNABS、SIPOABS數據庫進行檢索,并對檢索出的專利數據進行篩選和統計。通過對磁共振成像系統中射頻線圈的專利申請趨勢、申請人分析磁共振射頻線圈技術的發展脈絡。
關鍵詞:專利檢索;磁共振成像;射頻線圈
一、概述
磁共振成像(MRI)是繼X 射線計算機斷層成像、B 超等檢查技術后又一新的斷層成像方法。它具有無輻射損傷、組織分辨力高、多方位多參數成像等優點,因此在醫學領域得到了廣泛使用。MRI系統包括磁體子系統、梯度子系統、射頻子系統、信號采集和圖像重建子系統、主計算機和圖像顯示子系統等,用于負責信號產生、探測與編碼、數據處理、圖像重建、顯示與存儲。隨著科技的不斷發展,MRI 在磁體技術、射頻線圈技術和成像技術等方面都發生了翻天覆地的變化。其中尤其以射頻線圈技術的發展最為關鍵,各大企業也爭相投入大量研發資金,以期占領技術上的制高點,從而進一步搶占市場份額。
本文通過在SIPOABS數據庫以及CNABS數據庫中,通過IPC分類體系、CPC分類體系以及關鍵詞的聯合使用進行檢索。主要涉及的IPC、CPC分類號為G01R33/32及其下位組。
二、專利分析
1.檢索范圍
本文對相關內容的國內外專利進行了檢索,即在中國專利文摘數據庫(CNABS)和世界專利文摘庫(SIPOABS)中,以IPC、CPC分類號為G01R33/32及其下位組、以關鍵詞 “磁共振”、“射頻線圈”為檢索入口,篩選從1981年1月1日以來的國內外專利申請。
2.專利申請年度分析狀況
經過檢索發現,全球范圍內關于磁共振射頻線圈的專利申請共計4212項,其中向中國專利局提交的國內申請為837項。由圖1可以看出,國內磁共振射頻線圈技術的發展和國外有一定差距。國外從1982年開始,就在不斷持續研究該領域,每年均有一定數量的相關專利申請,每年的申請量穩步增長,但增長速度較為緩慢。截止到1990年,從專利數量上分析,應當屬于磁共振射頻線圈技術發展的嬰兒期。
從1991年開始,連續兩年的專利申請量有所下滑,而到了1993-1994年,申請量直線增長,最高達到126件/年,后續幾年申請數量較為平穩,因此從專利數量上可判斷此時期應當屬于磁共振射頻線圈技術發展的成長期。
從1999年開始,磁共振線圈技術領域的專利申請量又迎來了三個波段式、爆發式的增長,分別為1999-2004年、2004-2009年,2009-2013年。這一時期,專利數量的大幅上漲主要是由于磁體技術的快速發展,特別是在2000年短腔大孔徑低溫超導磁體的成功研制和2001 年美國食品藥品監督管理局批準3T 磁共振進入臨床后,技術發展和政策允許直接促進了專利申請數量的大幅度提高。從專利數量上可判斷此時期應當屬于磁共振射頻線圈技術發展的成熟期。
到了2014-2015年,有關磁共振射頻線圈的專利申請量急劇下降,但考慮到有些專利申請還未公開,因此,單單從這段時間的申請量,無法判斷磁共振線圈技術是否已經進入到了衰退期。
國內的第一件有關磁共振射頻線圈技術的專利申請出現在1994年,從1994年-1999年,有關磁共振射頻線圈技術的專利申請量一直保持在10個以下。而到了1999年,隨著國際申請量的爆發式、波段式的增長,國內申請量呈現出了與之對應的階梯式、平臺式的增長:2000-2003年期間,申請量穩定保持在10-20件之間;2004-2009年期間,申請量穩定保持在35-50件之間。分析其原因,是因為在國外申請數量急劇增長的過程中,有一些質量較高、價值較大的核心專利,經過篩選,進入到了中國進行申請。而在2009-2013年期間,國內申請量才實現了爆發式的增長,分析其原因,是國際申請量爆發增長的前提下,一些國內自主研發有關磁共振射頻線圈技術的公司開始注重知識產權的保護,這二者疊加導致國內申請量劇增。例如2010年成立的上海聯影醫療,僅在2012年和2013年就相關領域提出了19和16件的專利申請,數量相當可觀。到了2014年至今,隨著國際申請量的急劇下降,國內申請量也快速下滑,說明進入到中國的國際申請占國內申請量的比重仍然較大。
3、專利申請人分布情況分析
如圖3所示,就申請人的類型來看,國外申請的主體相對集中,主要為企業,而且大多為規模較大的跨國公司,只有一個加州大學是科研單位,這是因為磁共振射頻線圈領域需要較為尖端的技術以及雄厚的資金力量做支持,門檻較高,對于個人申請人或小型企業來說,想要在技術上有所突破困難重重。
三、結論與建議
綜上所述,在過去的幾十年間,隨著醫療產業的發展,涉及磁共振射頻線圈的專利技術經歷了嬰兒期、成長期、成熟期,申請量迅速增多,并在近幾年保持穩定。本文利用專利檢索的方法對磁共振射頻線圈領域專利現狀進行了分析,有助于專利政策的制定和規劃,為國內企業和研究機構找準磁共振射頻線圈領域的研究熱點提供導向。
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(* 等同于第一作者,與排名在前的作者對本論文有同等的貢獻)