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碳化硅半導(dǎo)體材料應(yīng)用及發(fā)展前景

2018-06-07 06:48:15賀東葛王家鵬劉國(guó)敬
電子工業(yè)專用設(shè)備 2018年3期
關(guān)鍵詞:晶片

賀東葛,王家鵬,劉國(guó)敬

(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所,北京 100176)

半導(dǎo)體材料通過(guò)多年的發(fā)展,目前可以分為三代,即第一代半導(dǎo)體“元素半導(dǎo)體”,典型如硅基和鍺基半導(dǎo)體,適用于數(shù)據(jù)的運(yùn)算和存儲(chǔ);其中以硅基半導(dǎo)體技術(shù)成熟,應(yīng)用也較廣;第二代是砷化鎵、磷化銦為基礎(chǔ)的III-V族化合物半導(dǎo)體,主要解決信息通信,應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體激光器、光纖通信、寬帶網(wǎng)等信息傳輸和存儲(chǔ)等領(lǐng)域的革命;第三代是以氮化鎵、氮化銦、氮化鋁、碳化硅為基礎(chǔ)的III-V族化合物半導(dǎo)體,在電和光的轉(zhuǎn)化方面性能突出,在微波信號(hào)傳輸方面的效率更高,可被廣泛應(yīng)用到照明、顯示、通訊等各個(gè)領(lǐng)域。目前市場(chǎng)應(yīng)用比較廣泛的藍(lán)綠光LED是基于SiC或GaN材料,也是特殊的第三代半導(dǎo)體。

1 碳化硅材料發(fā)展歷程

早在1824年,瑞典科學(xué)家Berzelius在人工合成金剛石的過(guò)程中就觀察到了SiC的存在,但是因?yàn)樘烊坏腟iC單晶極少,當(dāng)時(shí)人們對(duì)SiC的性質(zhì)幾乎沒(méi)有什么了解。直到1885年,Acheson將石英砂與碳混合放入管式爐中2 600℃反應(yīng),首次生長(zhǎng)出SiC晶體。

1959年,荷蘭Lely發(fā)明一種采用升華法生長(zhǎng)高質(zhì)量單晶體的新方法。

1978年,俄羅斯科學(xué)家Tairov和Tsvetkov發(fā)明了改良的Lely法。

1979年,SiC藍(lán)色發(fā)光二極管問(wèn)世。

1981年,Matsunami發(fā)明了Si襯底上生長(zhǎng)單晶SiC的工藝技術(shù)。

1991年,美國(guó)Cree公司用改進(jìn)的Lely法生產(chǎn)出6H-SiC晶片,并與1994年制備出4H-SiC晶片。1997年實(shí)現(xiàn)50 mm(2英寸)6H-SiC單晶的市場(chǎng)化,2000年實(shí)現(xiàn)100 mm(4英寸)6H-SiC單晶的市場(chǎng)化,2007年5月23日,Cree展示100 mm零微管碳化硅基底,2010年8月30日,Cree展示高品質(zhì)的150 mm碳化硅基片。這一突破性進(jìn)展立即掀起了SiC晶體及相關(guān)技術(shù)研究的熱潮。

SiC作為第三代半導(dǎo)體材料的杰出代表,由于其特有的物理化學(xué)特性,成為制作高頻、大功率、高溫器件的理想材料。隨著SiC晶體材料的生長(zhǎng)和外延技術(shù)的成熟,各種SiC器件將會(huì)相繼出現(xiàn)。目前,SiC器件的研究主要以分立器件為主,仍處于以開(kāi)發(fā)為主,生產(chǎn)為輔的階段。

2 SiC的晶體結(jié)構(gòu)及優(yōu)勢(shì)

SiC的結(jié)晶結(jié)構(gòu)是一種典型的共價(jià)鍵結(jié)合的化合物,自然界幾乎不存在。SiC具有α和β兩種晶型。β-SiC的晶體結(jié)構(gòu)為立方晶系,Si和C分別組成面心立方晶格;α-SiC存在著4H、15R和6H等100余種多型體,其中,6H多型體為工業(yè)應(yīng)用上最為普遍的一種。α-SiC是高溫穩(wěn)定型,β-SiC是低溫穩(wěn)定型。β-SiC在2 100~2 400℃可轉(zhuǎn)變?yōu)棣?SiC,β-SiC可在1 450℃左右溫度下由簡(jiǎn)單的硅和碳混合物制得。在溫度低于1 600℃時(shí),SiC以β-SiC形式存在。當(dāng)高于1 600℃時(shí),β-SiC緩慢轉(zhuǎn)變成α-SiC的各種多型體。4H-SiC在2 000℃左右容易生成;15R和6H多型體均需在2 100℃以上的高溫才易生成;對(duì)于6H-SiC,即使溫度超過(guò)2 200℃,也是非常穩(wěn)定的。常見(jiàn)的SiC多形體列于表1。

表1 常見(jiàn)的SiC多型體

不同的SiC結(jié)晶形態(tài)決定了其禁帶寬度的不同,但均大于Si和GaAs的禁帶寬度,大大降低了SiC器件的泄漏電流,加上SiC的耐高溫特性,使得SiC器件在高溫電子工作方面具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。

SiC是一種寬帶隙半導(dǎo)體,不同的結(jié)晶狀態(tài)有不同的帶隙,可以用做不同顏色的發(fā)光材料。如六角晶體SiC的帶隙約為3 eV,可以用做藍(lán)光LED的發(fā)光材料;立方晶體SiC的帶隙約為2.2 eV,可以用做綠色LED的發(fā)光材料。由于帶隙不同,它們呈現(xiàn)出不同的體色,立方晶系透射和反射出黃色,六角晶系呈無(wú)色。

利用SiC的不同多型體在半導(dǎo)體特性方面的不同,可以制作不同多型體間晶格完全匹配的異質(zhì)復(fù)合結(jié)構(gòu)和超晶格,從而獲得性能極佳的器件。例如6H-SiC結(jié)構(gòu)最為穩(wěn)定,適用于制造光電子器件;P-SiC比6H-SiC活潑,其電子遷移率最高,飽和電子漂移速度最快,擊穿電場(chǎng)最強(qiáng),適宜制造高溫、大功率、高頻器件及其它薄膜材料的襯底。

簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),SiC主要在以下3個(gè)方面具有明顯的優(yōu)勢(shì):擊穿電壓強(qiáng)度高,更寬的能帶隙,熱導(dǎo)率高,這些特性使得SiC器件更適合應(yīng)用在高功率密度、高開(kāi)關(guān)頻率的場(chǎng)合。

3 碳化硅材料的發(fā)展前景分析

碳化硅因其在高溫、高壓、高頻等條件下的優(yōu)異性能表現(xiàn),成為當(dāng)前最受關(guān)注的半導(dǎo)體材料之一,在交流-直流轉(zhuǎn)換器等電源轉(zhuǎn)換裝置中得到大量應(yīng)用。

碳化硅所具備的高功率轉(zhuǎn)換、低功耗等特性,所以它特別適合深井鉆探、太陽(yáng)能逆變器(實(shí)現(xiàn)直流與交流的轉(zhuǎn)換)、風(fēng)能逆變器、電動(dòng)汽車與混合動(dòng)力汽車、工業(yè)驅(qū)動(dòng)以及輕軌牽引等需要大功率電源轉(zhuǎn)換的應(yīng)用。

SiC半導(dǎo)體潛在應(yīng)用領(lǐng)域較為廣泛,對(duì)新能源汽車、軌道交通、智能電網(wǎng)和電壓轉(zhuǎn)換等領(lǐng)域都具有潛在的應(yīng)用前景。隨著下游行業(yè)對(duì)半導(dǎo)體功率器件輕量化、高轉(zhuǎn)換效率、低發(fā)熱特性需求的持續(xù)增加,SiC在功率器件中取代Si成為行業(yè)發(fā)展的必然。根據(jù)國(guó)家新能源汽車推廣規(guī)劃,2016-2020年,國(guó)家電網(wǎng)的充電站建設(shè)目標(biāo)高達(dá)10 000座,建成完整的“四縱四橫”電動(dòng)汽車充電網(wǎng)絡(luò)。隨著新能源及大功率電源轉(zhuǎn)換相關(guān)產(chǎn)業(yè)的成熟,SiC功率器件將迎來(lái)高速發(fā)展期。

美國(guó)的科銳公司是行業(yè)領(lǐng)先者,其在該市場(chǎng)之中具備大量專利,形成了技術(shù)上的壟斷,目前已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了150 mm碳化硅單晶的量產(chǎn),2012年就具備產(chǎn)量80~100萬(wàn)片,占據(jù)全球市場(chǎng)碳化硅單晶80%以上份額。目前歐洲和日本部分企業(yè)也相繼推出了50~75 mm碳化硅單晶生產(chǎn)計(jì)劃,提前搶占碳化硅市場(chǎng)。

我國(guó)是碳化硅最大的應(yīng)用市場(chǎng),占據(jù)全球近一半的使用量,但是我國(guó)的碳化硅產(chǎn)業(yè)還很不完善,國(guó)內(nèi)從事碳化硅材料及器件研發(fā)制造的多為高校和科研院所,缺乏產(chǎn)業(yè)化能力,不過(guò)近兩年來(lái)國(guó)內(nèi)已有少數(shù)企業(yè)開(kāi)始進(jìn)入碳化硅領(lǐng)域,已具備100 mm碳化硅晶片產(chǎn)能,碳化硅器件已初步實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),如北京泰科天潤(rùn)擁有一座完整的碳化硅半導(dǎo)體晶圓廠,可在100 mm SiC晶圓上實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體功率器件的制造,是目前國(guó)內(nèi)唯一擁有碳化硅器件生產(chǎn)線的企業(yè);北京天科合達(dá)專業(yè)從事碳化硅晶片制造,已經(jīng)具備了生產(chǎn)50~100 mm碳化硅晶片的能力,形成了一條年產(chǎn)7萬(wàn)片碳化硅晶片的生產(chǎn)線。

但由于碳化硅襯底是行業(yè)典型的技術(shù)密集型和資金密集型產(chǎn)業(yè),高良品率、高穩(wěn)定性的長(zhǎng)晶工藝技術(shù)是其核心。目前,國(guó)際上先進(jìn)的碳化硅長(zhǎng)晶工藝及裝備掌握在美德日俄等少數(shù)西方發(fā)達(dá)國(guó)家手中,全球僅極少數(shù)企業(yè)能夠商業(yè)化量產(chǎn)。

為了扶持我國(guó)碳化硅行業(yè)的快速發(fā)展,《國(guó)家中長(zhǎng)期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要(2006-2020年)》中明確將碳化硅列為“新一代信息功能材料及器件”優(yōu)先主題。在《中國(guó)制造2025》中明確大尺寸碳化硅單晶襯底為“關(guān)鍵戰(zhàn)略材料”“先進(jìn)半導(dǎo)體材料”。

4 結(jié)束語(yǔ)

當(dāng)前SiC這種物理化學(xué)性能優(yōu)異的新型材料越來(lái)越應(yīng)用廣泛,隨著SiC產(chǎn)量的快速提升,其生產(chǎn)成本將不斷下降,優(yōu)異的性能將使得SiC在功率器件領(lǐng)域逐步實(shí)現(xiàn)對(duì)Si半導(dǎo)體的替代。面對(duì)晶體市場(chǎng),電源管理元件市場(chǎng),晶片市場(chǎng),SiC半導(dǎo)體材料未來(lái)發(fā)展和替代空間巨大。結(jié)合我們國(guó)家目前對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)的重視,我國(guó)SiC半導(dǎo)體材料在未來(lái)一定會(huì)取得更大的發(fā)展。

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