日光溫室小西瓜高產栽培技術

蘇拉依曼·沙特爾

摘要 ? ?本文介紹了日光溫室小西瓜高產栽培技術，包括品種選擇、整地、起壟、施基肥、育苗、定植、溫室內管理、果實采收等方面內容，以期為溫室小西瓜高產栽培提供參考。

關鍵詞 ? ?小西瓜;日光溫室;高產;栽培技術

中圖分類號 ? ?S651;S627 ? ? ? ?文獻標識碼 ? ?B

文章編號 ? 1007-5739（2020）15-0079-02 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 開放科學（資源服務）標識碼（OSID）

隨著社會的發展和人們生活水平的逐漸提高，食物結構也開始發生變化，由季節性消費品逐漸轉變成周年性食品之一的小西瓜銷售量逐漸增加，給瓜農帶來了很高的經濟效益。本文總結了日光溫室小西瓜高效栽培技術，以期為提高小西瓜種植水平提供參考。

1 ? ?品種選擇

小西瓜品種繁多，根據皮色可分為黃皮、綠皮、花皮、黑皮，每個品種都有其優缺點和最適宜的種植區域。因此，定植前應根據本地自然條件、病蟲害發生率、栽培方式和市場需求選擇適宜的種植品種，可以選用金福、紅小玉、黃小玉、雪峰小玉五號等。

2 ? ?整地、起壟、施基肥

小西瓜具有發達的根系，為使其根系充分伸展，要求耕作層疏松深厚。種瓜土地要深翻，翻耕深度25～30 cm。深耕能加厚疏松土層，增加土壤孔隙，促進土壤養分釋放和植株根系吸收養料，減輕病蟲危害。日光溫室種植小西瓜在采用吊蔓、三蔓整枝、多蔓整枝和一株兩瓜的情況下，一般采用小高壟地膜滴灌和低壟栽培模式。小高壟地膜滴灌栽培模式行距1.2～1.5 m，壟基部寬70～80 cm，壟面寬40～45 cm，壟高30～40 cm。小高壟地膜滴灌栽培模式可以提高5～20 cm土層的溫度，有……