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三聚氰胺泡沫支撐的S型硫銦鋅鎘/硫摻雜氮化碳異質(zhì)結(jié)的綠色 H2O2 合成:協(xié)同界面電荷轉(zhuǎn)移調(diào)控與局域光熱效應(yīng)

2025-08-23 00:00:00王偉康王亞棟張建軍孟凱李金河王樂(lè)樂(lè)劉芹芹
物理化學(xué)學(xué)報(bào) 2025年8期
關(guān)鍵詞:氮化光生異質(zhì)

中圖分類(lèi)號(hào):0643

1引言

過(guò)氧化氫 (H2O2) 已成為可持續(xù)化學(xué)中的關(guān)鍵化學(xué)品,作為一種多功能環(huán)保氧化劑,廣泛應(yīng)用于廢水處理、醫(yī)療滅菌、工業(yè)合成等領(lǐng)域,甚至可作為燃料電池的潛在能源載體[1-3]。然而,全球 95% 以上的 H2O2 生產(chǎn)仍依賴高能耗、高污染的蒽醌氧化法[4]。光催化氧還原反應(yīng)(ORR)提供了一種太陽(yáng)能驅(qū)動(dòng)的替代方案,可在常溫條件下直接將 O2 和 $_ \mathrm { H } _ { 2 } \mathrm { O }$ 轉(zhuǎn)化為 H2O2 [5,6],從而規(guī)避熱催化路線的碳足跡問(wèn)題。但傳統(tǒng)光催化體系主要依賴犧牲電子給體(如甲醇、異丙醇)來(lái)抑制電荷復(fù)合[7,8],這不可避免地增加了運(yùn)行成本并產(chǎn)生有害副產(chǎn)物。雖然犧牲劑能暫時(shí)提升電荷分離效率,但其不可回收特性和二次污染嚴(yán)重制約了規(guī)?;瘧?yīng)用。為解決這一困境,亟需通過(guò)創(chuàng)新策略設(shè)計(jì)具有本征調(diào)控電荷動(dòng)力學(xué)和特定活性位點(diǎn)的光催化劑,實(shí)現(xiàn)在純水中無(wú)需犧牲劑輔助的ORR全反應(yīng)合成H2O2 [9]。

相較于傳統(tǒng)單相材料策略(如缺陷工程、助催化劑修飾、元素?fù)诫s等[10-13]),異質(zhì)結(jié)復(fù)合材料的構(gòu)建展現(xiàn)出高穩(wěn)定性、成本效益和優(yōu)化氧化還原電勢(shì)的顯著優(yōu)勢(shì),從而建立了這類(lèi)無(wú)需犧牲劑的 H2O2 合成體系。近年來(lái),新興的S型異質(zhì)結(jié)機(jī)制被提出,可在實(shí)現(xiàn)光生載流子空間分離的同時(shí)保留其最強(qiáng)氧化還原能力[14-16]。關(guān)鍵在于,氧化型光催化劑(OP)與還原型光催化劑(RP)之間形成的巨大界面內(nèi)建電場(chǎng)(IEF)能促進(jìn)電荷定向分離/傳輸,而空間隔離的載流子與活性位點(diǎn)可協(xié)同促進(jìn)氧化還原全反應(yīng)[17-19]。其中,二維可見(jiàn)光響應(yīng)型石墨相氮化碳 (g-C3N4) 因其適中的能帶結(jié)構(gòu)、層狀特性和豐富表面官能團(tuán)[20],已成為S型異質(zhì)結(jié)光催化劑的核心組分[18,21]。2024年,張及合作者報(bào)道了 ZnIn2S4/ 晶態(tài)聚合物氮化碳(ZIS/CPCN)異質(zhì)結(jié)用于雙功能產(chǎn)氫與左氧氟沙星降解。研究表明,具有有序庚嗪酰亞胺結(jié)構(gòu)、適宜能帶和擴(kuò)增層間距的CPCN可促進(jìn)電子在異質(zhì)結(jié)中的轉(zhuǎn)移[22]。但該工作中的產(chǎn)氫測(cè)試仍需依賴空穴犧牲劑來(lái)提升光生載流子的分離與利用效率。

除能帶匹配外,構(gòu)建內(nèi)置電場(chǎng)和缺陷工程的策略成為調(diào)控水氧化動(dòng)力學(xué)、提升電荷載流子利用效率的有效途徑,可用于全解水或無(wú)犧牲劑H2O2 光合成[23,24]。研究表明,在 ZnIn2S4 中引入Cd摻雜和S空位可有效調(diào)控能帶結(jié)構(gòu)并優(yōu)化電荷分離動(dòng)力學(xué)[25]。同時(shí),局域光熱效應(yīng)能顯著促進(jìn)光生載流子遷移并增強(qiáng)表面催化反應(yīng)動(dòng)力學(xué)[26,27]。值得注意的是,三維多孔、經(jīng)濟(jì)、親水性三聚氰胺泡沫(MF)作為光熱轉(zhuǎn)換材料和催化劑載體,已廣泛應(yīng)用于太陽(yáng)能海水淡化、熱能轉(zhuǎn)換及能量轉(zhuǎn)換催化等領(lǐng)域[28,29]。

本研究提出了一種電子結(jié)構(gòu)調(diào)控-缺陷工程-光熱協(xié)同的多層次策略,設(shè)計(jì)出具有分級(jí)結(jié)構(gòu)的MF載體負(fù)載硫摻雜氮化碳(SCN)/硫缺陷CdZnInS(CZIS)S型異質(zhì)結(jié)(CZIS/SCN/MF),用于純水中高效光合成 H2O2 。通過(guò)原位輻照XPS、自由基捕獲EPR實(shí)驗(yàn)、飛秒瞬態(tài)吸收光譜(fs-TA)和密度泛函理論(DFT)計(jì)算,全面證實(shí)了所制備復(fù)合光催化劑中的S型電荷轉(zhuǎn)移機(jī)制。具體而言,研究發(fā)現(xiàn)硫摻雜可調(diào)控氮化碳骨架內(nèi)的局域電荷分布,與CZIS/CN相比,顯著增強(qiáng)了CZIS/SCN異質(zhì)結(jié)界面處的電荷轉(zhuǎn)移。這一現(xiàn)象可建立強(qiáng)大的內(nèi)建電場(chǎng)(BIF),有利于特殊的電荷分離與遷移。此外,煅燒誘導(dǎo)的CZIS中硫空位可作為光電子陷阱促進(jìn)電荷分離,同時(shí)保留光生空穴以實(shí)現(xiàn)高效 $_ \mathrm { H } _ { 2 } \mathrm { O }$ 氧化生成 H2O2 。MF衍生的碳骨架不僅能作為催化劑載體抑制納米顆粒團(tuán)聚,還能利用局域光熱效應(yīng)加速電荷遷移和表面反應(yīng)動(dòng)力學(xué),最終實(shí)現(xiàn)純水中H2O2 的高效生產(chǎn)。該研究為開(kāi)發(fā)太陽(yáng)能驅(qū)動(dòng)整體化學(xué)合成的先進(jìn)光催化系統(tǒng)開(kāi)辟了新途徑。

2 實(shí)驗(yàn)細(xì)節(jié)

2.1 CN與SCN催化劑的合成

根據(jù)我們先前報(bào)道的工作[30],以尿素為前驅(qū)體、硫代乙酰胺(TAA)為硫源,合成了氮化碳(CN)和硫摻雜氮化碳(SCN)。CN的合成采用尿素為前驅(qū)體,通過(guò)兩步煅燒工藝實(shí)現(xiàn):首先在馬弗爐中550°C 煅燒 4h ,隨后所得粉末冷卻研磨后于 500°C 進(jìn)行1h的二次熱處理。接著將獲得的 0.2g CN納米片與特定質(zhì)量的TAA充分研磨,在環(huán)境氣氛下550°C 退火 2h 。所得樣品標(biāo)記為SCN- ?X (X=1 ,2,3,4,分別對(duì)應(yīng)40、80、120和 160mg 的TAA投加量)。

2.2 MF負(fù)載SCN催化劑的合成

將商用三聚氰胺泡沫(MF)用去離子水(DI)和乙醇清洗后,切割成 2×2×0.5cm 的小塊。隨后將這些MF小塊分別浸泡在1、5、10和 20mgmL-1 不同濃度的SCN催化劑溶液中,靜置老化 12h 。經(jīng)自然干燥后,即制得塊狀SCN/MF復(fù)合材料(標(biāo)記為A塊)。

2.3 MF負(fù)載SCN/CZIS異質(zhì)結(jié)的合成

常規(guī)制備過(guò)程中,將 ZnCl2 1 (0.75mmol) 、Cd(NO3)?4H2O (0.75mmol) )、 InCl3?4H2O (3 mmol)和TAA( 12mmol) 分散于 20mL 乙醇中,持續(xù)攪拌30min 以上形成透明溶液。隨后將A塊加入上述混合液,密封于聚四氟乙烯內(nèi)襯反應(yīng)釜中, 120°C 溶劑熱反應(yīng)2h獲得B塊。經(jīng)去離子水和乙醇洗滌后,于 60°C 真空烘箱干燥過(guò)夜,再經(jīng) 300°C 煅燒 1h 最終制得CZIS/SCN/MF復(fù)合催化劑。

2.4過(guò)氧化氫生成活性測(cè)試

光催化 H2O2 制備實(shí)驗(yàn)在自行設(shè)計(jì)的 100mL 石英窗口Pyrex反應(yīng)器中進(jìn)行。典型操作流程為:將20mg 催化劑與 50mL 純水混合形成均勻懸濁液,隨后在暗室條件下通入高純氧氣(純度 ≥99.999% .流速 30mL?min-1 鼓泡 30min 以上。實(shí)驗(yàn)采用全光譜(300W氙燈)及單色LED光源 (LED365 與 LED420 進(jìn)行照射。光照過(guò)程中定期通過(guò) 0.22μm 微孔濾膜抽取 1.0mL 反應(yīng)液進(jìn)行分析表征。 H2O2 生成濃度采用碘量法測(cè)定(具體方法參照我們前期工作[12])。紫外-可見(jiàn)漫反射光譜分析以 352nm 特征吸收峰為檢測(cè)波長(zhǎng),相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)曲線如圖S1所示。

2.5 表征與理論計(jì)算細(xì)節(jié)

表征和DFT理論計(jì)算的詳細(xì)信息見(jiàn)SupportingInformation。

3結(jié)果與討論

3.1 合成與結(jié)構(gòu)表征

圖1a展示了通過(guò)順序浸漬-原位水熱-煅燒法制備CZIS/SCN/MF復(fù)合催化劑的工藝流程。具體而言,首先以尿素和硫代乙酰胺(TAA)為前驅(qū)體,通過(guò)二次煅燒處理合成硫摻雜氮化碳(SCN)納米片。將所得SCN納米片在超聲條件下分散于去離子水中,形成不同濃度的均質(zhì)溶液。隨后將商用三聚氰胺泡沫(MF)基材切割成小塊,浸漬于SCN溶液中制得MF負(fù)載SCN中間體(記為SCN/MF)。將該SCN/MF塊體置于含 Cd2+ 、 Zn2+ 和 In3+ 金屬離子前驅(qū)體的TAA水溶液中,在聚四氟乙烯內(nèi)襯高壓釜內(nèi)進(jìn)行原位水熱處理。最后將所得復(fù)合塊體在空氣中煅燒,制得最終的CZIS/SCN/MF復(fù)合催化劑。

通過(guò)掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)圖像系統(tǒng)表征了MF、SCN/MF和CZIS/SCN/MF的微觀形貌。如圖S2和1b所示,原始MF呈現(xiàn)具有光滑表面的三維多孔骨架結(jié)構(gòu)??梢悦黠@觀察到CZIS/SCN/MF復(fù)合材料在MF支架上密集錨定了大量納米花球組裝體(圖1b插圖)。TEM和HAADF-STEM圖像(圖1c和S3)進(jìn)一步證實(shí)了CZIS的納米片組裝納米花球結(jié)構(gòu)。高分辨TEM圖像(圖1d)顯示間距分別為0.321和 0.383nm 的清晰晶格條紋,分別對(duì)應(yīng) ZnIn2S4 的(102)晶面和CdIn2S4 的(220)晶面[31,32],證實(shí)了通過(guò)水熱合成形成了 ZnIn2S4-CdIn2S4(CZIS) 固溶體。為驗(yàn)證SCN與CZIS的共存狀態(tài),通過(guò)STEM-EDS進(jìn)行了元素面分布分析(圖1e)??梢杂^察到Cd、 Zn 、In、S和N信號(hào)在納米花球結(jié)構(gòu)上均勻分布,而C信號(hào)主要富集于納米花球區(qū)域。證實(shí)了錨定在MF框架上的SCN修飾CZIS具有復(fù)合性質(zhì)。

Fig.1(a) Schematic preparation process for CZIS/SCN/MF composites. (b) SEM,(c) TEM, HR-TEM and (e) elemental mapping images of CZIS/SCN/MF. (f) XRD patterns of prepared sample

通過(guò)X射線衍射(XRD)對(duì)合成催化劑的晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究。如圖S4所示,SCN樣品雖然衍射峰強(qiáng)度有所降低,但仍保留了原始CN的特征(100)和(002)衍射峰,這表明硫元素的摻入在保持整體框架的同時(shí)[33,34],微妙地破壞了氮化碳層的堆疊有序性。與此同時(shí),經(jīng)SCN浸漬的MF樣品(記為SCN/MF)的XRD圖譜顯示,在約 20° 處出現(xiàn)了一個(gè)較寬的無(wú)定形碳峰,這與原始MF樣品類(lèi)似。而來(lái)自SCN的特征衍射峰強(qiáng)度則顯著降低。這一結(jié)果可歸因于MF載體基質(zhì)產(chǎn)生的掩蔽效應(yīng)。

此外,CZIS的XRD圖譜(圖1f)在 26°-28° 范圍內(nèi)呈現(xiàn)出一個(gè)寬化的主峰,這歸因于 ZnIn2S4 的(102)晶面 (2θ=27.69° ,JCPDS編號(hào)65-2023)與CdIn2S4 的(311)晶面 (2θ=27.25° ,JCPDS編號(hào)27-0060)的疊加[35]。值得注意的是,相較于純ZnIn2S4 ,CZIS的大部分衍射峰均呈現(xiàn)系統(tǒng)性向低角度方向的 2θ 偏移,這與較大半徑 Cd2+ 離子(0.97A取代 Zn2+ (離子半徑:0.74A)所引發(fā)的晶格膨脹現(xiàn)象一致。結(jié)合STEM-EDS顯示的元素均勻分布結(jié)果(圖1e),這些數(shù)據(jù)證實(shí)了Cd-Zn-In-S固溶體納米材料的成功制備。

3.2元素化學(xué)態(tài)與電荷轉(zhuǎn)移機(jī)制

為探究元素化學(xué)態(tài)與界面電荷轉(zhuǎn)移路徑,本研究系統(tǒng)開(kāi)展了原位輻照X射線光電子能譜(ISIXPS)分析[36]。高分辨C1s譜圖(圖2a)顯示,284.8eV處的結(jié)合能峰歸屬于C一C鍵,作為所有樣品的電荷校正基準(zhǔn)。值得注意的是,原始SCN七嗪骨架中雙配位碳 (N=C-N) 的特征結(jié)合能位于288.19eV。與CZIS耦合后,CZIS/SCN/MF復(fù)合材料中N C-N基團(tuán)的結(jié)合能產(chǎn)生顯著正位移 (288.68eV) ,表明異質(zhì)結(jié)形成過(guò)程中發(fā)生電子流失[37]。高分辨N1s XPS譜圖(圖2b)呈現(xiàn)相同趨勢(shì):SCN的三個(gè)特征峰(分別對(duì)應(yīng)( γ=ν-C ! N-(C)3 和 -NHx 鍵,位于398.57、400.04和 401.2eV, 在CZIS/SCN/MF樣品中均向高能方向移動(dòng)。與之相反,相較于原始CZIS,CZIS/SCN/MF的高分辨Zn、Cd和InXPS譜圖(圖2c-e)中所有峰均出現(xiàn)負(fù)位移,表明這些金屬中心獲得電子。這些結(jié)果共同證實(shí)了SCN與CZIS結(jié)合后,電子通過(guò)界面從SCN定向轉(zhuǎn)移至CZIS。此外,圖2f展示了SCN與CZIS/SCN/MF的高分辨XPSs2p 譜圖。原始SCN在168.46和 162.53eV 處呈現(xiàn)兩個(gè)弱峰,證實(shí)硫摻雜劑占據(jù)了氮化碳三嗪環(huán)中的雙配位N位點(diǎn);而CZIS/SCN/MF的兩個(gè)結(jié)合能峰分別歸屬于S 2p1/2 和 2p3/2 軌道。

Fig.2IS1-XPS spectra of high-resolution (a) C 1s, (b) N1s,(c) Zn2p. (d) Cd 3d, (e) In3d and (f) S 2p of SCN, CZIS and CZIS/SCN/MF (light refers Xe light irradiation).

在光照條件下,系統(tǒng)采集XPS譜以研究界面光激發(fā)電子轉(zhuǎn)移路徑。值得注意的是,CZIS/SCN/MF復(fù)合材料中SCN的高分辨率C和NXPS譜的所有結(jié)合能峰均呈現(xiàn)負(fù)向位移,而CZIS的所有組成元素在光照下則表現(xiàn)出輕微的正向位移。這表明與暗態(tài)下的行為相反,存在從CZIS向SCN的光生電子轉(zhuǎn)移。這些現(xiàn)象證實(shí)異質(zhì)結(jié)形成會(huì)引發(fā)電子從SCN向CZIS的初始遷移直至費(fèi)米能級(jí)平衡,因而會(huì)在界面處建立內(nèi)建電場(chǎng)[38]。光激發(fā)期間,光生電子隨后在該內(nèi)建電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)下從CZIS反向轉(zhuǎn)移至SCN,這與典型的S型電荷轉(zhuǎn)移機(jī)制高度吻合[39,40]。

通過(guò)固態(tài)電子順磁共振(EPR)光譜(圖S5)進(jìn)一步驗(yàn)證了復(fù)合催化劑中煅燒衍生的硫空位。與SCN/MF相比(兩種材料均經(jīng)過(guò)單次煅燒處理),CZIS/SCN/MF樣品顯示出顯著增強(qiáng)的洛倫茲共振峰。SCN/MF中的缺陷主要源于氮化碳基體中的氮空位,而復(fù)合材料經(jīng)CZIS修飾后缺陷濃度增加,這歸因于煅燒誘導(dǎo)產(chǎn)生的額外硫空位[11,25]。此外,通過(guò)N2吸附-脫附等溫線測(cè)試(圖S6進(jìn)一步研究了合成材料的多孔結(jié)構(gòu)和活性位點(diǎn)分布。三種樣品均表現(xiàn)出相似的IV型等溫線并伴有H3型滯后環(huán),表明其介孔特性。對(duì)孔徑分布和低壓等溫線區(qū)域的詳細(xì)分析表明,MF的引入顯著增加了CZIS/SCN/MF復(fù)合材料中微孔和小介孔的數(shù)量,使其比表面積 (280.6m2?g-1) 較 SCN(234.4m2?g-1) 和CZIS( 182.3m2?g-1) 顯著提升,這有利于反應(yīng)物傳質(zhì)并提供豐富的活性位點(diǎn)。

3.3光熱與 H2O2 生成測(cè)試

局部熱效應(yīng)已被證實(shí)能主動(dòng)加速光誘導(dǎo)電荷遷移并促進(jìn)表面反應(yīng)動(dòng)力學(xué)。為探究這一現(xiàn)象,我們對(duì)樣品在全光譜照射(300W氙燈) 3min 后進(jìn)行了紅外熱成像分析。如圖3a和S7所示,CZIS樣品中硫空位的引入優(yōu)化了其光譜響應(yīng)效率,導(dǎo)致其從室溫(約 18°C) 開(kāi)始的溫升幅度較原始SCN更為顯著。值得注意的是,在MF衍生碳載體輔助下,CZIS/MF、SCN/MF和CZIS/SCN/MF復(fù)合材料的光熱轉(zhuǎn)換性能較原始SCN、CZIS及CZIS/SCN顯著增強(qiáng),最高溫度達(dá)到 67.2°C 。這種突出的溫升效應(yīng)證實(shí)了MF框架獨(dú)特的熱衍生碳骨架結(jié)構(gòu)所產(chǎn)生的卓越局部光熱轉(zhuǎn)換能力。

由于原始SCN在無(wú)犧牲劑體系中效率有限,我們首先評(píng)估了不同硫摻雜濃度(SCN-X/MF)的MF負(fù)載CN光催化劑在 10vol.% 異丙醇溶液(圖S8)及氧氣氛圍下的 H2O2 生成活性。采用碘量比色法(圖S1)定量分析 H2O2 濃度,結(jié)果表明SCN-3實(shí)現(xiàn)了最佳光催化性能,因此被選作后續(xù)制備CZIS/SCN/MF復(fù)合材料的基底材料。

隨后,在純水中評(píng)估了所有復(fù)合催化劑的H2O2 產(chǎn)率。如圖S9a所示,比較了不同SCN前驅(qū)體濃度合成的復(fù)合材料在 LED365 照射下的 H2O2 生成活性,表明CZIS/ SCN10/MF 具有最佳催化活性,2h后生成的 H2O2 達(dá)到 2.77mmol?L-1 。與單相催化劑相比,所制備的CZIS/SCN/MFS型異質(zhì)結(jié)(即CZIS/SCN10/MF樣品)展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢(shì)(圖3b和3c),其 H2O2 產(chǎn)率達(dá)到 3.46mmol?g-1?h-1 。穩(wěn)定性測(cè)試(圖S9b)顯示,CZIS/SCN/MF在連續(xù)五次循環(huán)后H2O2 生成活性仍保持在 90% 以上。不同氣氛下的對(duì)照實(shí)驗(yàn)(圖3d)表明,在Ar氣氛中測(cè)試的CZIS/SCN/MF的 H2O2 產(chǎn)率為 0.31mmol?g-1?h-1 ,證實(shí)了其驅(qū)動(dòng)水氧化過(guò)程生成 H2O2 的能力。此外,在空氣氣氛下,CZIS/SCN/MF催化劑的活性達(dá)到1.36mmol?g-1?h-1 ,驗(yàn)證了其實(shí)際應(yīng)用性。另外,CZIS/SCN/MF的 H2O2 產(chǎn)率測(cè)試光源對(duì)比(圖3e)突顯了其在全波長(zhǎng)范圍(尤其是可見(jiàn)光區(qū)域)的光譜響應(yīng)特性。圖S10展示了不同光源的輻照度光譜。

我們進(jìn)一步評(píng)估了不同樣品在全光譜照射(300W氙燈)下的 H2O2 生成速率常數(shù) (kf) 與分解速率常數(shù) (kd) 。圖3f(初始濃度 C0=2mmol?L-1, 的分解實(shí)驗(yàn)表明,SCN/MF具有最快的 H2O2 降解速率,這主要?dú)w因于MF衍生碳框架的局域光熱效應(yīng)。相比之下,MF負(fù)載的CZIS/SCN異質(zhì)結(jié)實(shí)現(xiàn)了更高的H2O2 生成效率,從而抵消了其光分解作用。如圖3g所示,CZIS/SCN/MF復(fù)合材料展現(xiàn)出最高的 kf 值和最低的 kd 值,從而獲得優(yōu)異的 H2O2 凈生成性能。

Fig.3(a) IR thermal images of prepared samples. (b) Time-dependent photocatalytic H2O2 production tests and (c) H2O2 yield rates of prepared catalysts. H2O2 yield tests of CZIS/SCN/MF photocatalyst under (d) different atmospheres and (e) different light irradiation. (f) Time-dependent curves of photocatalytic H2O2 decomposition (Full-spectrum, C0=2mmol?L-1 )and(g)determined kf and kd constant of SCN/MF, CZIS, CZIS/SCN and CZIS/SCN/MF catalyst.

3.4能帶結(jié)構(gòu)與電荷分離效率

能帶結(jié)構(gòu)排布對(duì)S型異質(zhì)結(jié)的構(gòu)建與研究至關(guān)重要。我們首先測(cè)試了所有合成樣品的紫外-可見(jiàn)漫反射光譜(DRS)。如圖4a所示,摻硫的SCN表現(xiàn)出明顯的吸收邊拖尾現(xiàn)象,而原始CZIS則顯示出強(qiáng)可見(jiàn)光吸收 (400-800nm) 。值得注意的是,所有MF負(fù)載催化劑(CZIS/MF和CZIS/SCN/MF)均表現(xiàn)出增強(qiáng)的光吸收能力,這主要?dú)w因于MF衍生碳骨架的全光譜吸收特性。根據(jù)DRS數(shù)據(jù)繪制了純SCN和CZIS的Tauc曲線(圖4b),得出CZIS和SCN的帶隙能分別為 2.27eV 和 2.96eV 。此外,通過(guò)不同頻率下測(cè)得的莫特-肖特基(M-S)曲線(圖4c)確定了相對(duì)于 Ag/AgCl 的平帶電勢(shì)分別為-0.91V(CZIS)和-1.71V(SCN)[41]。綜合這些結(jié)果,圖4d構(gòu)建的能帶圖與S型異質(zhì)結(jié)的理論構(gòu)型高度吻合。

采用電化學(xué)光電流與電化學(xué)阻抗譜(EIS)評(píng)估電荷分離效率。光電流響應(yīng)測(cè)試(圖4e)表明,異質(zhì)結(jié)復(fù)合材料的構(gòu)建顯著抑制了光生載流子復(fù)合,其光電流密度呈現(xiàn) CZIS/SCNgt;CZISgt;SCN 的層級(jí)關(guān)系。此外,MF衍生的導(dǎo)電碳骨架促進(jìn)了電子-空穴的快速遷移,使得CZIS/SCN/MF的光電流密度較CZIS/SCN有顯著提升。EIS譜圖(圖4f)呈現(xiàn)一致結(jié)果,CZIS/SCN/MF展現(xiàn)出最小的奈奎斯特半圓半徑,證實(shí)其電荷轉(zhuǎn)移效率得到明顯改善。

為探究異質(zhì)結(jié)中的光生載流子傳輸動(dòng)力學(xué),在不同氣氛下測(cè)量了催化劑的時(shí)間分辨光致發(fā)光(TR-PL)光譜[42,43]。如圖S6a-c所示,采用三指數(shù)衰減模型對(duì)SCN、CZIS和CZIS/SCN/MF在Ar和 O2 氣氛下采集的TR-PL光譜進(jìn)行擬合,獲得短壽命(τ1) 、中壽命 (τ2) 和長(zhǎng)壽命 (τ3) 三個(gè)衰減組分(具體參數(shù)見(jiàn)表S1)。對(duì)于原始SCN和CZIS樣品, τ3 組分在O2 與 Ar 氣氛間變化最為顯著,表明 τ3 反映了表面O2 活化過(guò)程中的電荷轉(zhuǎn)移動(dòng)力學(xué)。具體而言,SCN- O2 的 τ3 值較SCN-Ar顯著降低且振幅占比增加,說(shuō)明 O2 活化所需的電荷轉(zhuǎn)移發(fā)生在SCN表面。相反,CZIS- ?O2 相較于CZIS-Ar表現(xiàn)出 τ3 延長(zhǎng)和振幅占比降低,同時(shí)平均壽命 (τave) 增加。這種對(duì)比表明,在構(gòu)建的S型異質(zhì)結(jié)催化劑中, O2 活化主要發(fā)生在SCN組分而非CZIS上。

圖4g展示了所有樣品在氧氣氛圍下檢測(cè)的瞬態(tài)光致發(fā)光光譜。由于存在硫缺陷和高結(jié)晶度,CZIS樣品在三個(gè)測(cè)試樣品中展現(xiàn)出最短的壽命,這與其優(yōu)異的電荷傳輸效率相關(guān)。值得注意的是,CZIS/SCN/MFS型異質(zhì)結(jié)復(fù)合材料的所有壽命值均介于原始SCN與CZIS之間。這種中間壽命特性證明了CZIS(優(yōu)化的電荷傳輸)與SCN(豐富的氧氣吸附/活化位點(diǎn))的協(xié)同整合,從而解釋了其顯著提升的過(guò)氧化氫生成活性。

超氧自由基 (?O2-) 和 *OOH 中間體在調(diào)控雙電子氧還原路徑生成 H2O2 的過(guò)程中起關(guān)鍵作用[44,45]。為檢測(cè)這些活性物種,我們采用原位電子自旋共振(ESR)光譜技術(shù),以5,5-二甲基吡咯啉-N-氧化物(DMPO)作為自旋捕獲劑。如圖4h所示,在以乙醇 為空穴清除劑的照明條件下,三個(gè)樣品均檢測(cè)到與DMPO- ?O2? 加合物對(duì)應(yīng)的特征信號(hào),確證了氧還原生成 H2O2 過(guò)程中存在連續(xù)兩步單電子轉(zhuǎn)移路徑。值得注意的是,CZIS/SCN/MF復(fù)合材料顯示出最強(qiáng)的ESR信號(hào)強(qiáng)度,表明所構(gòu)建的異質(zhì)結(jié)與MF衍生碳骨架協(xié)同抑制了光生電子-空穴對(duì)的復(fù)合。在純水(無(wú)清除劑)中進(jìn)行光照射時(shí),所有測(cè)試樣品均出現(xiàn)歸屬于DMPO-OH加合物的特征信號(hào)(圖4i),證實(shí)光生空穴具有足夠氧化電位驅(qū)動(dòng)水氧化產(chǎn)生·OH,這有利于后續(xù) H2O2 的生成。相較于純CZIS和SCN樣品,CZIS/SCN/MF顯著增強(qiáng)的·OH信號(hào)強(qiáng)度進(jìn)一步佐證了S型電荷轉(zhuǎn)移路徑一該機(jī)制能有效促進(jìn)具有優(yōu)越氧化還原電位的光生載流子空間分離與定向遷移。

3.5飛秒瞬態(tài)吸收光譜與密度泛函理論計(jì)算

為追蹤異質(zhì)結(jié)界面內(nèi)的電荷轉(zhuǎn)移弛豫過(guò)程,我們對(duì)樣品進(jìn)行了飛秒瞬態(tài)吸收光譜(fs-TA)測(cè)試[42,46]。圖5a與5b分別展示了制備的CZIS樣品和CZIS/SCN/MF樣品的二維偽彩色fs-TA光譜。如圖5c和5d所示,兩個(gè)樣品在 400-450nm 范圍內(nèi)均出現(xiàn)明顯的寬負(fù)吸收帶。結(jié)合圖4a中紫外-可見(jiàn)漫反射光譜的帶邊吸收特征,該寬負(fù)信號(hào)可歸因于基態(tài)漂白(GSB)與受激發(fā)射(SE)的疊加結(jié)果[47]。

Fig.5(a,b) 2D pseudo-color fs-TA spectra, (c,d) TA signal spectra and (e) normalized decay kinetic curves of GSB peaks (430nm) witha table of fitting parameters for CZIS and SCN-MF-CZIS.

隨后,在 430nm 處探測(cè)到的衰減軌跡被繪制出來(lái),并使用三指數(shù)衰減函數(shù)進(jìn)行分析,以模擬圖5e中兩種催化劑的光生載流子動(dòng)力學(xué)。擬合參數(shù)τ1 1 τ2 和 τ3 的具體數(shù)值列于圖5e旁的表格中[48,49]。具體而言,原始CZIS樣品呈現(xiàn)三指數(shù)衰減特性,其壽命分別為 τ1=5.77 ps(振幅占比 36% )、 τ2= 53.98 ps (51%) 和 τ3=287.48ps(13%) ,這對(duì)應(yīng)于熱載流子逐級(jí)冷卻、缺陷介導(dǎo)的捕獲以及有限的表面電荷分離過(guò)程[50,51]。其中 τ2 的主導(dǎo)地位凸顯了硫空位作為淺陷阱的作用,空位態(tài)在此主導(dǎo)了載流子復(fù)合路徑[15,52,53]。當(dāng)與SCN構(gòu)建S型異質(zhì)結(jié)后,SCN-MF-CZIS的所有壽命組分 (τ1,τ2 均顯著縮短,證實(shí)了材料內(nèi)部及界面處電荷分離/傳輸效率的提升[54]。值得注意的是,SCN-MF-CZIS的τ1 壽命縮短至0.79ps(振幅 35% ,反映了CZIS與預(yù)吸附在缺電子位點(diǎn)上的 $_ \mathrm { H } _ { 2 } \mathrm { O }$ 分子之間發(fā)生的超快空穴轉(zhuǎn)移過(guò)程[15,55],這有利于表面 $_ \mathrm { H } _ { 2 } \mathrm { O }$ 氧化生成H2O2 。同時(shí),歸因于界面電荷轉(zhuǎn)移的最長(zhǎng)壽命組分 τ3 從純CZIS的287.48ps(振幅 13% 降至87.95ps(振幅 10% 0[12,56],表明該異質(zhì)結(jié)能實(shí)現(xiàn)更高效的空間電荷分離。通過(guò)引入表面缺陷和S型電荷轉(zhuǎn)移機(jī)制[57,58]。

為深入探究界面電荷轉(zhuǎn)移的機(jī)制機(jī)理,我們開(kāi)展了密度泛函理論(DFT)計(jì)算[59,60]。圖6a,b展示了CN與SCN樣品的功函數(shù) (?) 分析結(jié)果,并附有相應(yīng)的電子局域函數(shù)(ELF)映射圖作為插圖。值得注意的是,與原始CN(4.69eV)相比,硫摻雜的SCN展現(xiàn)出顯著降低的功函數(shù) (3.86eV) ,這表明光生載流子從費(fèi)米能級(jí) (Ef) 向真空能級(jí) (Ev) 的逃逸能力得到提升[61]。ELF分析表明硫摻雜有效調(diào)控了氮化碳基體中的面內(nèi)電荷局域分布。這些結(jié)果證實(shí)硫元素的引入通過(guò)電子結(jié)構(gòu)修飾促進(jìn)了面內(nèi)電荷分離與遷移。類(lèi)似地,隨著Cd元素的摻入,CZIS的? 值也出現(xiàn)輕微下降(圖6c和6d)。

Fig. 6(a,b) 2D pseudo-color fs-TA spectra,(c,d)TA signal spectraand(e,f) normalized decay kinetic curves of GSB peaks ( with a table of fitting fitting parameters for CZIS and SCN-MF-CZIS.

為系統(tǒng)研究界面電荷轉(zhuǎn)移行為,我們構(gòu)建了SCN/CZIS與CN/CZIS異質(zhì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行對(duì)比分析。圖6e展示了電荷密度差(CDD)分布,其中黃色與青色等值面分別代表電子積累與耗盡區(qū)域。兩種異質(zhì)結(jié)均在碳氮基體(CN與SCN)呈現(xiàn)電荷耗盡、在CZIS界面處呈現(xiàn)電荷積累,證實(shí)兩種半導(dǎo)體組分觸時(shí)遵循S型機(jī)制[62]發(fā)生從碳氮材料到CZIS的單向電荷轉(zhuǎn)移。值得注意的是,SCN/CZIS體系展現(xiàn)出比CN/CZIS更強(qiáng)的電荷積累強(qiáng)度,其擴(kuò)展的等值面體積可佐證該現(xiàn)象,這可通過(guò)圖6f的一維CDD分布進(jìn)一步驗(yàn)證。界面電子積累與耗盡強(qiáng)度的提升將增強(qiáng)SCN/CZIS界面的內(nèi)建電場(chǎng)(IEF),從而有效促進(jìn)載流子的空間分離與遷移。

4結(jié)論

綜上所述,我們以三聚氰胺泡沫(MF)為支架,通過(guò)原位水熱和煅燒處理成功構(gòu)建了CZIS/SCN/MFS型異質(zhì)結(jié)。得益于S型電荷轉(zhuǎn)移機(jī)制和MF衍生碳骨架的存在,所制備的CZIS/SCN/MF催化劑展現(xiàn)出增強(qiáng)的可見(jiàn)光捕獲能力、受抑制的光生載流子復(fù)合以及高效的光熱轉(zhuǎn)化性能。具體而言,硫摻雜調(diào)控了氮化碳的局部電子結(jié)構(gòu),促進(jìn)了界面電荷轉(zhuǎn)移并增強(qiáng)了內(nèi)建電場(chǎng)。值得注意的是,CZIS中硫空位與MF衍生碳骨架光熱效應(yīng)的協(xié)同整合,進(jìn)一步提升了電荷轉(zhuǎn)移效率和表面反應(yīng)動(dòng)力學(xué),從而在不使用任何犧牲劑的條件下顯著提高了光催化 H2O2 合成性能。本研究為設(shè)計(jì)無(wú)犧牲劑光催化體系的高效異質(zhì)結(jié)催化劑提供了新思路,強(qiáng)調(diào)了電子結(jié)構(gòu)工程與多機(jī)制協(xié)同的重要性。

Author Contribution: Conceptualization, W.K. W. and Q.

L.;Methodology,Y.W.andW.K.W.;Investigation,Y.W.andK.

M.;Writing-Original Draft Preparation,W.K.W.;WritingReviewamp;Editing,L.W.andQ.L.;Visualization,Y.W.andJ.

Z.; Supervision, J. Z.;Project Administration,W.K.W. and Q.

L.; Funding Acquisition,W.K.W.,L.W. and Q.L.

Supporting Information:available free ofchargevia the internet at https://www.whxb.pku.edu.cn.

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